电机与拖动基础

电机与拖动基础 pdf epub mobi txt 电子书 下载 2026

出版者:
作者:林瑞光 编
出品人:
页数:269
译者:
出版时间:2002-1
价格:23.00元
装帧:
isbn号码:9787308030496
丛书系列:
图书标签:
  • 大学教材
  • 购买
  • 电机学
  • 教材
  • Machinery
  • 电机
  • 拖动
  • 电力拖动
  • 电气工程
  • 电机学
  • 控制工程
  • 基础理论
  • 工业自动化
  • 电机控制
  • 电力系统
想要找书就要到 本本书屋
立刻按 ctrl+D收藏本页
你会得到大惊喜!!

具体描述

《新世纪高等院校精品教材•电机与拖动基础》主要论述各类电机的基本原理与特性,以及利用电动机作为原动机来拖动生产机械按人们规定的要求进行运动的基本理论。《新世纪高等院校精品教材•电机与拖动基础》是原《电机学》、《电力拖动》和《微特电机》等课程的有机结合,主要论述各类电机的基本原理与特性,以及利用电动机作为原动机来拖动生产机械按人们规定的要求进行运动的基本理论,是工业自动化类专业必须掌握的一门技术基础课。

现代集成电路设计与应用 第一章:半导体器件基础 本章深入探讨现代集成电路(IC)的基石——半导体器件的物理原理与特性。我们将从晶体管的诞生讲起,重点剖析MOSFET(金属氧化物半导体场效应晶体管)的工作机制,包括其沟道形成、开关特性以及亚阈值导通效应。详细阐述p型和n型半导体的掺杂过程、载流子迁移率的测量方法以及PN结的势垒形成。此外,本章还将介绍肖特基二极管、双极性晶体管(BJT)在特定高频应用中的地位,并对比MOSFET与BJT在功耗和集成度上的优劣,为后续电路设计奠定坚实的物理基础。内容着重于器件级的参数提取,如跨导、阈值电压的温度依赖性。 第二章:CMOS器件特性与工艺流程 本章聚焦于当前主流的CMOS(互补金属氧化物半导体)技术。我们将系统梳理不同工艺节点的演进,从微米级到纳米级,特别是FinFET等先进结构对短沟道效应的抑制作用。详细介绍标准CMOS器件的制造流程,包括光刻、刻蚀、薄膜沉积(如PECVD、LPCVD)和离子注入等关键步骤。深入探讨工艺偏差(Process Variation)对电路性能的影响,以及如何通过工艺角仿真(Corner Simulation)来确保设计的鲁棒性。此外,本章还将分析栅氧化层漏电流(Gate Leakage Current)、热载流子效应(Hot Carrier Effects)等深层次的器件可靠性问题,并介绍DIBL(漏致势垒降低)现象的机理。 第三章:模拟集成电路设计 本章是模拟电路设计的核心部分,旨在培养读者构建高性能模拟模块的能力。内容涵盖跨导放大器(OTA)的设计与优化,包括如何选择合适的晶体管尺寸以平衡增益、带宽和功耗。深入研究反馈理论在运算放大器(Op-Amp)中的应用,特别是米勒补偿技术及其对相位裕度的影响。本章还详细讲解了各种偏置电路的设计,如电流镜(Current Mirror)的匹配精度问题和温度补偿技术。滤波器设计方面,将介绍有源RC滤波器、开关电容滤波器(Switched-Capitor Filters)的原理,以及如何利用它们在片上实现高Q值和高选择性。特别关注低噪声放大器(LNA)的设计,探讨输入阻抗匹配和噪声系数(Noise Figure)的计算。 第四章:数据转换器原理与实现 数据转换器(ADC和DAC)是连接模拟世界与数字世界的桥梁。本章系统介绍模数转换器(ADC)的主要架构,包括Flash ADC的高速并行结构、流水线(Pipeline)ADC的分级设计、逐次逼近寄存器(SAR)ADC的效率优化以及Sigma-Delta ($SigmaDelta$) ADC的过采样与噪声整形技术。针对DAC,将深入剖析电阻梯形(R-2R Ladder)的失配误差分析和热插拔(Thermometer-coded)结构的运用。本章的核心在于量化和消除非理想效应,如微分非线性(DNL)和积分非线性(INL)的校准方法,并讨论在高速ADC设计中必须克服的采样保持电路(Sample-and-Hold Amplifier)的时序误差。 第五章:数字集成电路与系统级设计 本章转向高速数字逻辑的设计。从基础的CMOS反相器开始,分析其延迟模型(Elmore Delay Model)和输入转换时间对系统速度的影响。随后,深入讲解时序分析,包括建立时间(Setup Time)和保持时间(Hold Time)的约束,以及如何通过时钟树综合(Clock Tree Synthesis, CTS)来最小化时钟偏斜(Clock Skew)。本章将大量篇幅用于介绍低功耗设计技术,如电压调节(Voltage Scaling)、时钟门控(Clock Gating)和多电压域设计。在系统级层面,将探讨同步设计流程,包括使用硬件描述语言(HDL,如Verilog/VHDL)进行行为级建模、综合(Synthesis)以及后仿真(Post-Layout Simulation)。 第六章:高速IC的互连与封装效应 随着集成度提高,芯片内部的金属互连线不再是理想的导线。本章专门分析了高级封装技术和片上信号完整性(Signal Integrity, SI)问题。详细讨论了传输线理论在片上互连中的应用,包括信号反射、串扰(Crosstalk)的建模和抑制。研究电迁移(Electromigration)和静电放电(ESD)保护电路的设计,确保芯片在实际工作环境下的长期可靠性。此外,本章还将介绍先进封装技术,如2.5D/3D集成(Chiplet技术)对系统性能和热管理的挑战与机遇,以及如何通过电磁(EM)仿真工具来优化关键信号路径的布局布线。 第七章:射频集成电路(RFIC)基础 本章面向无线通信应用,讲解了RFIC设计的特殊挑战。重点在于匹配网络的设计(Smith Chart的应用),如何实现最大功率传输和最小噪声输入。详细介绍低噪声放大器(LNA)的噪声匹配、混频器(Mixer)的转换增益和局部振荡器(LO)的相位噪声抑制。振荡器设计方面,将深入探讨LC振荡器、环形振荡器的工作原理,以及频率合成器(PLL/DLL)的锁定时间与抖动(Jitter)性能。本章强调了电感器(Inductor)在片上实现的高Q值设计、电感器的寄生效应分析,以及体效应(Substrate Coupling)的隔离技术。 第八章:电路可靠性与测试 本章关注集成电路在生命周期内的稳定运行与质量保证。系统性地分析了导致IC失效的多种机理,如闩锁效应(Latch-up)的预防、时间依赖性介质击穿(TDDB)的寿命预测模型。在测试方面,本章详细介绍了可测性设计(Design for Testability, DFT)技术,包括扫描链(Scan Chain)的插入、自动测试结构(ATPG)的覆盖率分析。针对模拟和混合信号电路,探讨了BIST(Built-In Self-Test)技术的应用,以及如何通过片上测试电路(Test Circuits)来量化和校准ADC的线性度、DAC的失真等关键参数,确保出厂合格率。 第九章:先进工艺节点的挑战与未来趋势 本章展望了半导体行业的未来发展方向。讨论了极紫外光刻(EUV)对纳米级特征实现的推动作用,以及Gate-All-Around (GAA)晶体管结构(如RibbonFET)如何取代FinFET以应对更小的特征尺寸。内容涉及新型材料的应用,如二维材料晶体管的潜力。同时,探讨了计算架构的范式转变,如存内计算(In-Memory Computing)、类脑计算(Neuromorphic Computing)对传统CMOS电路提出的新要求,以及异构集成对设计工具和流程带来的变革。

作者简介

目录信息

读后感

评分

评分

评分

评分

评分

用户评价

评分

教材

评分

教材

评分

教材

评分

教材

评分

教材

本站所有内容均为互联网搜索引擎提供的公开搜索信息,本站不存储任何数据与内容,任何内容与数据均与本站无关,如有需要请联系相关搜索引擎包括但不限于百度google,bing,sogou

© 2026 onlinetoolsland.com All Rights Reserved. 本本书屋 版权所有