本书深入论述了X射线光电子谱(XPS)和静态次级离子质谱(SSIMS)及其在聚合物材料研究中的应用。在聚合物表面的结构分析与特性研究,特别是解决工业研究中有关问题时,XPS和SSIMS普遍被认为是强有力的技术。随着过去十年仪器分析能力和数据阐释方面的飞速发展,该领域已经发展到有可能将这两方面的信息合并起来的阶段。本书中,作者叙述了XPS和SSIMS技术,并就各自可获得的住处类型分别作了解释。本书也
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