绪论
第1篇金相显微术
第1章金相显微镜的光学基础与构造
1.1光学基础
1.1.1反射和折射定律
1.1.2光的性质和可视性
1.1.3偏振光
1.1.4光的衍射和干涉
1.1.5几何光学
1.2透镜的光学缺陷和设计
1.2.1透镜光学缺陷
1.2.2透镜的设计和特性
1.3照明方式
1.3.1科勒照明
1.3.2明场照明
1.3.3暗场照明
1.3.4新型无限远光学系统
1.4性能参数
1.4.1衍射与分辨率
1.4.2有效放大倍率
1.4.3景深
1.4.4工作距离和视域范围
1.5图像记录和处理及分析
1.5.1显微照相
1.5.2视频显微术
1.5.3数字CCD显微术
1.5.4图像处理与定量分析
1.6金相显微镜的操作
1.6.1光源的调整
1.6.2光阑的调整
第2章金相试样的制备
2.1金相试样的制备步骤
2.1.1取样和镶嵌
2.1.2研磨与抛光
2.1.3浸蚀
2.1.4现代金相样品制备技术概述
2.2常用浸蚀剂显示金相组织举例
2.2.1硝酸酒精浸蚀剂
2.2.2苦味酸浸蚀剂
2.2.3LB染色浸蚀剂
2.2.4Klemm浸蚀剂
2.2.5Ber’aha浸蚀剂
2.2.6Lepera浸蚀剂
第3章相位衬度显微镜
3.1相位衬度显微术原理
3.2相衬显微镜的光学设计
3.3金相显微镜和生物显微镜光学布置的差异
第4章偏振光显微镜
4.1偏振光的反射特征
4.2反射式偏振光显微镜的光学布置和使用
4.3应用举例
4.3.1各向异性组织的显示
4.3.2非金属夹杂物的鉴别
4.3.3复合夹杂物的定性鉴别
第5章微分干涉衬度显微镜
5.1DIC光学系统
5.2DIC图像的形成
5.3DIC图像与其他成像方式图像的比较
第6章共聚焦激光扫描显微镜
6.1共聚焦成像的光学原理
6.2影响共聚焦图像质量因素
6.3共聚焦显微镜的功能和应用
第2篇x射线衍射分析
第7章x射线物理学基础
7.1X射线衍射分析发展简史
7.2X射线本质及其波谱
7.2.1X射线本质
7.2.2X射线谱
7.3X射线与物质相互作用
7.3.1X射线散射
7.3.2X射线真吸收
7.3.3X射线衰减规律
7.3.4X射线吸收效应的应用
7.4X射线防护
第8章x射线衍射方向
8.1晶体几何学
8.1.1晶体结构—
8.1.2晶体投影
8.1.3倒易点阵
8.2布拉格方程
8.2.1布拉格方程
8.2.2布拉格方程的讨论
8.2.3倒易空间中的衍射条件
8.3厄瓦尔德图解
8.3.1厄瓦尔德图解
8.3.2厄瓦尔德图解示例
第9章x射线衍射强度
9.1单个晶胞散射强度
9.1.1单个电子散射强度
9.1.2单个原子散射强度
9.1.3单个晶胞散射强度
9.2单个理想小晶体散射强度
9.2.1干涉函数
9.2.2衍射畴
9.3实际多晶体衍射强度
9.3.1实际小晶粒积分衍射强度
9.3.2实际多晶体衍射强度
9.3.3多晶体衍射强度计算方法
第10章x射线衍射方法
10.1相照法
10.1.1德拜一谢乐法
10.1.2聚焦法
10.1.3针孔法
10.2衍射仪法
10.2.1测角仪
10.2.2计数器
10.2.3单色器
10.3测量条件
10.3.1试样要求
10.3.2影响测量结果的因素
10.3.3测量条件示例
第11章多晶物相分析
11.1标准卡片及其索引
11.1.1卡片介绍
11.1.2索引方法
11.2定性物相分析
11.2.1手工检索
11.2.2计算机检索
11.2.3其他问题
11.3定量物相分析
11.3.1基本原理
11.3.2分析方法
11.3.3其他问题
第12章晶体结构与点阵参数分析
12.1晶体结构识别
12.1.1基本原理
12.1.2立方晶系指标化
12.1.3其他问题
12.2点阵参数测定
12.2.1德拜法误差来源
12.2.2衍射仪法误差来源
12.2.3消除系统误差方法
12.3晶体结构模型分析
12.3.1原理与方法
12.3.2其他问题
第13章应力测量与分析
13.1测量原理
13.1.1内应力分类
13.1.2测量原理
13.2测量方法
13.2.1测量方式
13.2.2试样要求—
13.2.3测量参数
13.3数据处理方法
13.3.1衍射峰形处理
13.3.2定峰方法
13.3.3误差分析
13.4三维应力及薄膜应力测量
13.4.1三维应力测量
13.4.2薄膜应力测量
第14章衍射谱线形分析
14.1谱线宽化效应及卷积关系
14.1.1几何宽化效应
14.1.2物理宽化效应
14.1.3谱线卷积关系
14.2谱线宽化效应分离
14.2.1强度校正与K。双线分离
14.2.2几何宽化与物理宽化的分离
14.2.3细晶宽化与显微畸变宽化的分离
14.3非晶材料x射线分析
14.3.1径向分布函数
14.3.2结晶度计算
14.4小角X射线散射分析
14.4.1基本原理
14.4.2吉尼叶公式及应用
第15章多晶织构测量和单晶定向
15.1多晶体织构测量
15.1.1织构分类
15.1.2极图及其测量
15.1.3反极图及其测量
15.1.4三维取向分布函数
15.2单晶定向
15.2.1单晶劳厄相的特点
15.2.2单晶定向方法
第3篇电子显微分析
第16章透射电子显微镜的原理和构造
16.1入射电子在固体样品中所激发的信号及其体积
16.1.1激发的信号
16.1.2电子柬激发体积
16.2透射电子显微镜的构造
16.2.1电子波长
16.2.2电子透镜
16.3成像方式和变倍原理
16.4透射电子显微镜的理论分辨本领极限
第17章透射电子显微镜的样品制备
17.1表面复型技术概述
17.2质厚衬度原理
17.2.1单个原子对入射电子的散射
17.2.2质厚衬度成像原理
17.3一级复型与二级复型
17.3.1塑料一级复型
17.3.2碳一级复型
17.3.3塑料一碳二级复型
17.4抽取复型
17.5粉末样品
17.6薄膜样品的制备方法
17.6.1直接制得薄膜样品
17.6.2大块晶体样品制成薄膜的技术
17.6.3聚焦离子束方法
第18章电子衍射和衍衬成像
18.1电子衍射与X射线衍射的比较
18.2衍射产生的条件
18.3电子衍射几何分析公式及相机常数
18.4选区电子衍射的原理及操作
18.5多晶电子衍射花样的标定及其应用
18.5.1多晶衍射花样的产生及几何特征
18.5.2多晶电子衍射花样的主要应用
18.6单晶电子衍射花样的分析
18.6.1单晶电子衍射花样的几何特征和强度
18.6.2单晶电子衍射花样的标定方法
18.6.3单晶电子衍射花样的应用
18.7复杂电子衍射花样的特征和识别
18.7.1高阶劳厄区斑点
18.7.2超点阵斑点
18.7.3孪晶衍射花样
18.7.4二次衍射斑点
18.7.5菊池衍射花样
18.8衍射衬度成像原理及应用
18.8.1透射电子像衬度的分类
18.8.2衍衬成像的方法和原理
18.8.3衍衬运动学理论
18.8.4衍衬成像的应用举例
18.8.5透射电子显微镜动态观察
第19章分析电子显微镜
19.1分析电子显微镜特点
19.2高分辨电子显微术的基本原理
19.2.1电子散射和傅里叶变换
19.2.2高分辨像形成过程描述的两个重要函数
19.2.3谢尔策欠焦
19.2.4弱相位体高分辨像的直接解释
19.3薄膜样品的X射线能谱分析
19.3.1薄样品分析原理
19.3.2薄样品厚度的判据
19.3.3薄样品的空间分辨率
19.3.4薄样品的检测灵敏度
19.4微衍射花样与会聚束电子衍射
19.4.1微衍射花样
19.4.2会聚束电子衍射
19.4.3电子能量损失谱
19.4.4分析电子显微术应用举例
19.4.5分析电子显微镜的进展及其分析新技术简介
第20章扫描电子显微镜
20.1扫描电子显微镜的工作原理和构造
20.1.1工作原理
20.1.2构造
20.2扫描电子显微镜的像衬度原理及其应用
20.2.1表面形貌衬度的原理
20.2.2表面形貌衬度改善的电子减速技术
20.2.3原于序数衬度原理
20.2.4二次电子和背散射电子任意混合的ExB技术
20.2.5扫描透射电子显微术
20.3电子背散射衍射分析及其应用
20.3.1背散射电子衍射工作原理和仪器结构
20.3.2电子背散射花样晶体取向和织构分析原理
20.3.3晶体取向的EBSD测定举例
第21章电子探针X射线显微分析仪
21.1电子探针的分析原理和构造
21.1.1分析原理
21.1.2构造
21.2电子探针的分析方法和应用
21.2.1分析方法
21.2.2定量分析基本原理简介
21.2.3应用
思考题与练习题
附录
参考文献
· · · · · · (收起)