《X射綫熒光光譜分析基礎》是一本介紹x射綫熒光光譜分析基礎知識的書，闡述瞭x射綫光譜分析的物理基礎；波長色散型X射綫熒光光譜儀的基本結構、部件工作原理；定性、半定量、定量、薄膜、鍍層分析的相關理論、分析方法、乾擾因素和校正方法以及各類分析樣品的製樣技術。《X射綫熒光光譜分析基礎》還介紹瞭x射綫熒光分析領域國內外近年的一些新進展，其中包括能量色散X射綫熒光分析、全反射X射綫熒光分析、同步輻射x射綫熒光分析、微束x射綫熒光分析及質子激發X射綫分析等的原理、儀器和應用。書後附有常用的物理常數、參數及應用實例。
《X射綫熒光光譜分析基礎》可做從事x射綫熒光光譜分析人員的入門教材，也可為分析化學領域的科研人員、分析人員和大專院校學生提供有益的參考。
具體描述
讀後感
本書內容十分實用易懂，內容簡明扼要，尤其適閤波長色散型X射綫熒光光譜。有幸在技術交流會上認識本書審校人馬光祖先生，是個和藹可親的老人！本人使用日本島津公司的XRF-1800光譜儀，除第六章外，其他章節都非常適用，尤其是第四章定量分析中的基體校正，實驗校正，譜綫校正，...
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评分X熒光射綫分析技術
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