氧化铝制取工

页数:679

出版时间:2006-9

价格:88.00元

isbn号码:9787203056362

具体描述

《氧化铝制取工(上下)》根据《国家职业标准——氧化铝制取工》的要求，按照标准、教材、题库一条龙的编写原则，由山西铝厂、中国铝业股份有限公司山西分公司牵头编写，是氧化铝制取工职业技能鉴定推荐培训教材。《氧化铝制取工(上下)》介绍了氧化铝制取工的基础知识和初级工、中级工、高级工、技师、高级技师五个级别应掌握的操作技能及相关知识，涉及生产设备、配矿、石灰烧制、矿浆制备、压缩气体制备、煤粉制备、熟料烧结、铝土矿溶出、熟料溶出、液固分离、脱硅、铝酸钠溶液分解、氢氧化铝焙烧、蒸发、设备维护等内容。

用户评价

**评价四：** 我近期阅读了这本**《分离工程中的多孔介质传质现象》**，它彻底改变了我对过滤和吸附过程的理解。这本书的独特之处在于，它将**流体力学、物理化学和材料科学**完美地融合在了一起，专注于**非理想流动**下的传质行为。作者花了大量篇幅讨论了**非达西流动**的修正模型，尤其是在**颗粒床层和膜系统**中，孔隙结构的不均匀性如何导致严重的**旁路效应和扩散限制**。书中对**分子筛和MOFs（金属有机骨架）材料**的吸附动力学分析尤其精彩，它引入了**时间尺度分离**的概念，区分了外扩散、孔隙扩散和表面吸附的相对重要性，并提供了相应的实验验证数据。我惊喜地发现，书中对**色谱分离效率**的讨论，引入了最新的**分形几何学**概念来描述吸附剂表面的复杂性，这使得模型的预测能力大大增强。这本书的难度不低，但对于希望突破传统分离技术瓶颈，开发**新型高效分离过程**的研究人员来说，绝对是激发灵感的源泉。

**评价五：** 这本**《冶金过程中的气氛控制与杂质行为》**是一本极为细致入微的专业著作。它将焦点集中于那些常常被忽略但却能决定产品成败的**痕量元素和环境气体**。书中详尽地绘制了**各种还原性、氧化性气氛下，关键金属（如钛、镍）与碳、氧、氮的平衡关系图谱**，并辅以大量的热力学计算支持。我特别欣赏作者对**气氛泄漏与循环净化技术**的系统性总结。不同于仅介绍设备构造的资料，本书深入分析了泄漏源的概率分布，并提出了基于**实时在线分析数据**的动态气氛调节策略，这对保证**真空冶炼或惰性气体保护**的稳定性具有直接指导意义。此外，书中对**熔渣-金属界面处的气体溶解与析出**机制的描述，结合了**表面张力和微区化学势梯度**的理论，解释了一些宏观上看似矛盾的现象。阅读这本书，就像是走进了一个高度受控的冶金实验室，每一个反应参数的微小波动都被精确地量化和解释了。

**评价一：** 这本关于**《电化学过程基础》**的书籍，实在是让人耳目一新。作者以一种近乎诗意的笔触，将那些原本枯燥的电化学理论阐述得生动有趣。我尤其欣赏它在**界面现象**处理上的深度。书中不仅详尽地描绘了电极/电解质界面的结构演变，还引入了**非平衡态热力学**的视角，这对于理解实际工业过程中的快速反应和动态平衡至关重要。例如，它对**电流密度对过电位影响**的分析，不再是简单的线性或对数关系，而是结合了扩散层厚度和电荷转移速率的复杂耦合模型，提供了远超一般教材的洞察力。更难得的是，书中还穿插了大量历史上的关键实验和科学家们的思考历程，让人感觉不是在阅读一本教科书，而是在跟随一位经验丰富的导师，逐步揭开电化学世界的神秘面纱。对于那些希望将理论知识真正应用于**新型电池设计或电催化**领域的工程师和研究人员来说，这本书无疑是一份宝贵的参考资料，它构建了一个坚实而富有弹性的理论框架，足以支撑未来更复杂的应用探索。

**评价三：** 这是一本关于**《高温炉窑热工设计与节能优化》**的实用手册，但它的价值远超一般的设计规范。我印象最深的是它对**辐射换热与自然对流**在复杂几何空间中耦合作用的建模方式。很多传统教材往往将这两种效应割裂开来处理，但这本书记载的方法，尤其是作者自创的**“区域划分与迭代修正法”**，非常巧妙地解决了实际炉膛内温度场分布不均的问题。书中详尽地列举了不同**耐火材料的导热系数随温度变化的实测数据**，并给出了如何根据这些数据来反推最佳炉衬厚度的具体步骤，这对于我们进行**节能改造**至关重要。我特别关注了其中关于**烟气余热回收系统**的设计章节，它不仅介绍了常用的换热器类型，还深入剖析了**腐蚀性介质对换热面积的影响因子**，并提供了相应的材料选择建议。阅读过程中，我感到作者是一位深谙实践的专家，他的每一句话都建立在无数次失败和成功的工业实践之上，读起来踏实、可靠。

**评价二：** 我最近翻阅了这本**《先进材料的晶体生长与形貌控制》**，感到非常震撼。这本书的侧重点似乎完全放在了**微观结构对宏观性能的决定性作用**上。作者没有过多纠缠于传统的相图分析，而是深入探讨了**外延生长、位错机制以及孪晶界**在材料内部的形成和控制。特别是在描述**液相外延（LPE）和气相沉积（CVD）**过程中，书中提供的**原子尺度的模拟结果**清晰地展示了不同温度梯度和气流速度如何微妙地改变最终产物的表面粗糙度和晶粒取向。这对于我们处理**半导体异质结**的性能衰减问题，提供了极具价值的指导。书中引用的案例大多来自**高精度光学器件和传感器制造**的前沿研究，而非陈旧的教科书例子。阅读过程中，我多次停下来，对照手中的实验数据，发现书中提出的某些**临界形核速率**的概念，完美解释了我们生产线上遇到的晶须生长问题。这本书的语言风格严谨而精准，每一个公式和每一个图表都经过深思熟虑，是那种需要反复咀嚼才能领会其中深意的著作。