Handbook of Ion Beam Processing Technology pdf epub mobi txt 电子书下载 2026

简体网页||繁体网页

☆☆☆☆☆

出版者:

作者:Cuomo, Jerome J./ Rossnagel, Stephen M. (EDT)

出品人:

页数:460

译者:

出版时间:1990-1

价格:$ 214.70

装帧:

isbn号码:9780815511991

丛书系列:

图书标签:

deposition
beam
Ion
离子束
离子注入
材料科学
表面处理
薄膜技术
半导体
纳米技术
等离子体
材料改性
真空技术

下载链接在页面底部

facebook linkedin mastodon messenger pinterest reddit telegram twitter viber vkontakte whatsapp 复制链接

想要找书就要到本本书屋

onlinetoolsland.com

立刻按 ctrl+D收藏本页

你会得到大惊喜!!

具体描述

This book deals with ion beam processing for basic sputter etching of samples, sputter deposition of thin films, the synthesis of material in thin film form, and the modification of the properties of thin films.

现代材料科学中的先进表征技术：聚焦于表面与界面分析本书导言：在当代材料科学与工程领域，对物质微观结构，尤其是材料表面和界面特性的深入理解，是开发高性能新材料、优化现有工艺流程的关键。材料的宏观性能往往由其亚纳米甚至原子尺度的表面与界面现象所决定。本书旨在系统梳理和深入探讨当前在材料科学研究中最前沿、最关键的先进表征技术，重点关注如何通过这些技术揭示材料的结构、成分、缺陷以及动态行为。本书内容严格聚焦于物理、化学、电子学、光学等多个维度的高级表征方法，旨在为研究生、研究人员和工程师提供一个全面、深入且实用的参考手册。本书内容不涉及任何关于离子束加工技术或与“Handbook of Ion Beam Processing Technology”直接相关的主题。第一部分：基础理论与样品制备的艺术第一章：现代表征的理论基石本章将回顾支撑现代材料表征技术的物理学基础，包括量子力学在电子与光子相互作用中的应用、晶体结构理论中的倒易空间概念、以及信号采集与图像重建的数学原理。我们将详细讨论衍射、散射、光谱学等核心现象背后的物理模型，并建立起“测量信号”与“材料真实结构”之间的定量联系。重点分析信号穿透深度与表面敏感性之间的内在矛盾及其在不同技术选择中的指导意义。第二章：高精度样品制备与环境控制先进的表征结果高度依赖于样品的质量。本章详细介绍为适应不同表征技术（如高真空、低温、高压或原位操作）所需的样品制备技术。内容涵盖：超平抛光技术（机械与电化学抛光）、薄膜沉积后的表面清洁协议、以及针对特定研究目标（如催化、电化学反应）的样品池设计与搭建。特别强调了在制备过程中避免引入假象（Artifacts）的关键控制点和质量保证流程。第二部分：基于电子与散射的结构分析第三章：透射电子显微镜（TEM）的深度应用本章深入探讨高分辨率透射电子显微镜（HRTEM）在原子尺度成像中的应用，包括像差校正对分辨率的突破。重点分析电子衍射（SAED）在确定晶体取向和缺陷类型（如层错、堆垛层错）中的作用。此外，我们将详述能量过滤透射电镜（EELS）和X射线能谱分析（EDS）在空间分辨元素分析和化学键态分析上的集成应用，展示如何通过二维谱图绘制材料的化学梯度图。第四章：扫描电子显微镜（SEM）与表面形貌学本书将SEM的讨论提升至先进水平，不仅涵盖二次电子（SE）和背散射电子（BSE）成像，还深入解析深度剖析技术（如聚焦离子束辅助制样后的截面分析）。本章详细阐述电子探针微区分析（EPMA）在定量轻元素分析和痕量元素分布方面的优势，并介绍电子背散射衍射（EBSD）如何提供晶粒尺寸、取向、晶界几何的统计学信息，是宏观织构分析的基石。第五章：X射线衍射（XRD）的结构解析本章侧重于粉末和单晶X射线衍射在精细结构解析中的应用。除了传统的布拉格峰分析，我们将详述粉末衍射（PXRD）如何用于相鉴定、晶胞参数精化（Rietveld方法），以及利用峰形分析（如Scherrer方程、Williamson-Hall法）来量化纳米晶粒尺寸效应和微应变。对于薄膜材料，将讨论掠射角X射线衍射（GXRD）在确定层内应力与薄膜厚度测量上的专有技术。第三部分：表面化学与电子态的谱学探究第六章：X射线光电子能谱（XPS）的化学敏感性 XPS是分析材料表面元素组成和化学价态的核心技术。本章详细阐述光电效应的物理模型，以及如何通过结合能漂移（Chemical Shift）来精确区分不同化学环境中的同一元素。内容涵盖：仪器校准、峰拟合的复杂性、俄歇参数分析（Auger Parameter）对电子密度局域环境的敏感性，以及如何通过XPS深度剖析（结合溅射）来构建材料的化学剖面。第七章：俄歇电子能谱（AES）的超高空间分辨率与XPS相比，AES提供了更高的空间分辨率，使其成为分析纳米结构表面反应的理想工具。本章将重点讨论AES的激发机制、信号采集的挑战，以及如何通过扫描隧道电子显微镜（STEM）耦合AES实现几纳米尺度的元素成像。还将讨论其在金属氧化物界面电子转移动力学研究中的独特优势。第八章：中性与离子散射光谱学本章介绍基于低能离子或中性粒子散射的技术，如二次离子质谱（SIMS）和中性粒子分析（NPA）。重点分析SIMS在超痕量元素（ppb级别）检测的灵敏度，以及其带来的同位素分析能力。同时，讨论如何通过控制离子束能量和角度，实现对表面吸附物和化学键的敏感探测。第四部分：原位、动态与功能表征第九章：原位/实时表征技术的设计与挑战理解材料在真实工作环境下的行为至关重要。本章专门探讨在非平衡条件下进行表征的“原位”（In-situ）技术平台。内容包括：原位加热/冷却TEM，高压电化学池中电极界面的原位光谱监测（如拉曼、XPS），以及光照或机械应力作用下的实时结构演化跟踪。本书强调设计具备高兼容性、高数据采集速率的实验系统的工程考量。第十章：光学与振动光谱学：分子与电子态的指纹本章集中讨论拉曼光谱（Raman Spectroscopy）和红外光谱（FTIR）在识别分子结构、晶格振动模式和相变中的应用。特别关注表面增强拉曼散射（SERS）在检测极低浓度分子吸附物方面的巨大潜力。此外，将讨论椭偏技术（Ellipsometry）在测量薄膜厚度、折射率和消光系数等光学常数方面的精度。第十一章：热学与电学性能的耦合表征本章探讨将结构信息与宏观功能参数关联起来的表征手段。内容包括：差示扫描量热法（DSC）与热重分析（TGA）在理解材料相变温度和热稳定性中的作用。此外，将详细介绍扫描探针显微镜（SPM）家族（AFM/STM）在纳米尺度摩擦学、电学成像（如开尔文探针力显微镜KPFM）以及热点测量中的应用，这些技术直接关联材料的界面势能和载流子行为。总结与展望：本书的最后部分将对当前表征技术的发展趋势进行总结，展望未来结合机器学习和高通量筛选技术，如何更有效地利用多模态数据进行材料的快速逆向设计。本书强调，成功的材料研究往往需要综合运用多种互补的技术，以构建对材料从原子到宏观尺度的完整认知图景。