Advances in Optics Design and Precision Manufacturing Technologies

Advances in Optics Design and Precision Manufacturing Technologies pdf epub mobi txt 电子书 下载 2026

出版者:
作者:Jin, G. F. (EDT)/ Lee, W. B. (EDT)/ Cheung, C. F. (EDT)/ To, S. (EDT)
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页数:0
译者:
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价格:494
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isbn号码:9780878494583
丛书系列:
图书标签:
  • 光学设计
  • 精密制造
  • 光学技术
  • 光学工程
  • 激光技术
  • 精密仪器
  • 制造技术
  • 光学元件
  • 先进制造
  • 光电工程
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具体描述

《光学设计与精密制造前沿技术》 光学系统,作为现代科技的基石,从微观的生物成像到宏观的宇宙探索,无不扮演着至关重要的角色。其性能的优劣直接决定了设备的精度、效率以及最终的应用效果。本书旨在深入探讨光学设计领域的新进展以及支撑这些设计的精密制造技术,为光学工程师、制造专家以及相关领域的研究人员提供一份全面而深入的参考。 在光学设计方面,本书将重点阐述如何突破传统设计的局限,迎接更复杂、更严苛的应用需求。我们会详细介绍先进的光学成像理论与技术,包括但不限于: 宽带消色差技术:随着光学系统在光谱探测、多光谱成像等领域的广泛应用,如何在宽广的波长范围内实现精确的成像,减少色差的干扰,是设计的关键。本书将深入分析多种先进的宽带消色差方法,例如使用特殊光学材料(如氟化物、硫化物玻璃)设计的多片式消色差镜组,以及利用衍射光学元件(DOE)实现多波长聚焦的原理和设计技巧。 复杂曲面与自由曲面光学设计:传统的球面和非球面设计已难以满足某些高性能光学系统的要求,例如超高分辨率相机、先进激光器的光学系统以及微型化光学器件。本书将详细介绍自由曲面光学设计的方法论,包括如何利用Zernike多项式、NURBS曲面等数学模型描述和优化自由曲面,以及基于光线追迹和优化算法的精确设计流程。我们将展示自由曲面在校正像差、控制光束形状、实现小型化和集成化等方面的显著优势。 多功能集成光学系统设计:现代光学系统越来越趋向于集成化和多功能化,以实现更紧凑的尺寸和更强的性能。本书将探讨如何将多种光学功能(如变焦、成像、滤波、分光、偏振控制等)集成到单一的光学元件或紧凑的系统中。例如,探讨如何设计具有变焦功能的自由曲面透镜,或者如何将衍射光学元件与折射光学元件结合,实现多功能集成。 先进的像差理论与控制:除了传统的球差、彗差、像散、场曲和色差,随着成像精度的不断提高,一些更高阶的像差也需要被考虑和校正。本书将详细介绍高阶像差的产生机理,以及利用逆向工程、非对称设计、特殊形状的镜面等先进技术进行精确控制的方法。 在精密制造方面,本书将聚焦于实现上述先进光学设计所必需的关键技术和工艺,重点包括: 精密光学元件的加工技术: 超精密金刚石车削:对于具有高反射率要求的金属光学元件或某些聚合物光学元件,金刚石车削是实现纳米级表面光洁度和亚微米级轮廓精度的核心技术。本书将深入讲解金刚石车削的原理、刀具选择、工艺参数优化以及对不同材料的适用性。 研磨与抛光技术:对于玻璃和陶瓷等材料,传统但依旧重要的研磨与抛光技术在实现光学元件的高精度表面形貌和超光滑表面方面发挥着关键作用。我们将详细介绍不同类型的研磨与抛光介质、工艺流程(如行星式抛光、磁流变抛光 MRF)、以及如何通过这些技术实现纳米级的表面粗糙度。 非球面与自由曲面加工:实现复杂曲面的精确加工是现代光学制造的一大挑战。本书将重点介绍计算机数控(CNC)磨削、CNC抛光等技术,以及离子束抛光、硅酮抛光等新兴的精密加工方法。我们将探讨这些技术在加工复杂曲面时的优势、局限性以及工艺优化策略。 精密光学元件的检测与计量: 干涉测量技术:干涉仪是评价光学元件表面形貌和表面质量最常用的高精度测量设备。本书将介绍相位移动干涉仪、斐索干涉仪、谢泼尔干涉仪等不同类型干涉仪的工作原理,以及它们在检测球面、非球面和自由曲面光学元件时的应用,并讨论测量精度和误差分析。 轮廓测量与原子力显微镜(AFM):对于表面形貌的微观分析,轮廓仪和AFM是必不可少的工具。本书将介绍这些技术如何用于表征光学元件的表面粗糙度、划痕、微观结构等。 衍射和散射测量:对于表征光学元件的光学特性,如表面粗糙度引起的散射,衍射测量和散射测量技术提供了重要的信息。 先进的表面处理与涂层技术: 减反射膜、高反射膜与增透膜:光学元件的性能很大程度上取决于其表面的光学涂层。本书将深入探讨单层膜、多层膜的设计理论,以及各种蒸发(热蒸发、电子束蒸发)、溅射、原子层沉积(ALD)等涂层技术在制备高质量增透、反射、滤光涂层中的应用。 功能性涂层:除了基本的反射和透射控制,本书还将介绍用于实现特定功能的涂层,如抗反射涂层、防污涂层、耐磨涂层等,以及它们的制备工艺和性能评估。 光学元件的装配与集成: 精密光学组件的装配:光学系统的性能往往取决于其内部元件的精确对准和固定。本书将介绍粘接技术、应力控制技术、精密定位平台等在光学组件装配中的应用,以及如何通过装配过程中的误差控制来保证最终的光学性能。 微纳光学器件的制造与集成:随着光学系统向微型化和集成化发展,微纳光学器件(如光栅、衍射光学元件、微透镜阵列)的制造与集成成为研究热点。本书将介绍光刻、电子束光刻、纳米压印等微纳制造技术,以及如何将这些器件集成到更大的光学系统中。 本书通过对光学设计与精密制造的深入剖析,旨在为读者提供解决实际工程问题和推动技术创新的坚实理论基础和实践指导。无论您是致力于开发下一代成像设备、精密测量仪器,还是前沿的光学科学研究,本书都将是您不可或缺的宝贵资源。

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读后感

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用户评价

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我被这本书中展现出的对复杂系统建模的广度和深度所震撼。它显然不是一本入门级的教材,而是面向具有一定光学基础的专业人士的进阶指南。书中对衍射光学元件(DOE)的设计与制造偏差的耦合分析,达到了一个非常高的水平。作者没有止步于菲涅耳波带片的基础理论,而是详尽阐述了基于迭代傅里叶变换的DOE优化算法,并结合光刻和蚀刻工艺中的侧壁倾角误差,分析了这对衍射效率的影响。更让我感到意外的是,书中还穿插了关于实时光学系统检测与误差反馈的章节,这部分内容通常在单独的计量学书籍中才会出现。作者成功地将设计、制造和检测这三大支柱融为一体,形成了一个良性循环的优化闭环。这种全景式的视角,极大地拓宽了我对现代光学工程的理解边界,它不再是孤立的学科,而是一个高度耦合、互相制约的复杂系统。阅读此书的过程,更像是在进行一次高强度的专业“思维体操”,挑战你的知识储备,同时也丰厚你的工程直觉。

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坦白说,市面上关于光学设计的书籍汗牛充栋,但大多是重复前人理论框架的再演绎。然而,这本著作的独特之处在于其对“精密制造”环节的深度挖掘和整合。它不仅仅是简单地罗列了几种超精密加工方法,而是深入探讨了这些方法如何反作用于设计空间。例如,它详细讨论了由于刀具磨损或环境温度波动导致的表面形貌误差,如何通过引入特定的优化约束或补偿算法来缓解。书中对激光加工和纳米压印工艺在光学元件制造中的应用也给出了详尽的案例分析,特别是关于表面粗糙度与散射损失的定量关系描述,非常具有说服力。从排版上看,图表质量极高,许多结构示意图和误差云图都非常清晰,有效避免了传统教科书那种晦涩难懂的形象表达。对于任何一位致力于将光学系统从“纸上谈兵”推向“实际落地”的研发人员来说,这本书提供了一种跨越设计与制造鸿沟的实用桥梁,它强调的协同优化理念,正是当前高端光学领域最紧迫的需求之一。

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翻开这本书,我首先感受到的是一股强烈的务实气息,它似乎专门为那些常年在实验室和车间之间奔波的工程师们量身打造。它的结构安排非常注重逻辑的连贯性,从基础的光学系统优化方法入手,逐步过渡到对非球面透镜和反射镜的实际制造挑战的探讨。书中对公差分析的章节处理得尤为出色,它没有采用那种枯燥的统计学罗列,而是通过一系列精心构建的实例,演示了不同公差项对系统MTF(调制传递函数)的实际影响,并给出了一套系统性的容差分配策略。此外,书中对新一代镀膜技术,特别是增材制造光学元件的介绍,展现了作者对行业未来趋势的敏锐洞察力。虽然涉及到的物理原理并不简单,但作者在阐述过程中,始终保持着一种清晰的“工程语言”,避免了过多的学术腔调,使得即便是初次接触某些复杂概念的读者也能迅速抓住核心要点。这本书的阅读体验是连贯且富有启发性的,它让你在了解“如何设计”的同时,也清楚地意识到“如何制造出来”才是决定成败的关键。

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这本新近出版的关于光学设计与精密制造的专著,内容跨度极大,让人颇为惊喜。它并未将重点局限于单一的理论推导或设备介绍,而是巧妙地将前沿的光学理论与实际的制造工艺紧密结合。例如,书中对于自由曲面光学元件的设计流程进行了深入剖析,从初始的光线追迹到复杂的误差预算,每一步骤都有详尽的数学模型支撑。更令人称道的是,它没有停留在理论层面,而是紧接着探讨了如何通过超精密加工技术(如金刚石车削或磁流变抛光)来实现这些理论设计。我特别欣赏作者在处理“设计与制造的可行性”这一核心矛盾时的坦诚态度,他们不仅展示了尖端技术的潜力,也客观地指出了当前制造公差所带来的实际性能损失,这对于工程实践者来说无疑是极为宝贵的参考。书中引入的仿真案例,特别是结合了物理光学效应的仿真,极大地增强了理论的可视化程度,使得那些原本晦涩的波动光学概念也变得易于理解。整体来看,这本书更像是一份集理论指导、工艺参考与工程挑战分析于一体的综合性手册,对于希望从光学设计跨越到实际产品实现阶段的研究人员,价值非凡。

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这本书的叙事风格非常具有时代感,它紧密围绕当前工业界对高性能、小尺寸光学组件的需求展开。它没有过多地沉湎于经典几何光学,而是将大量的篇幅投入到非传统光学元件和先进制造流程中。例如,在微纳光学领域,书中对光子晶体结构的设计参数敏感性进行了细致的探讨,并特别指出了在小批量、高精度试制阶段,如何利用聚焦离子束(FIB)进行精修和调整。与市面上许多侧重于软件操作指南的书籍不同,这本书的重点在于“理解背后的物理和工程限制”。作者在探讨薄膜设计时,不仅考虑了多层膜系的理论最优解,还细致分析了沉积速率不均匀性如何导致宏观尺度的膜厚误差,这体现了一种对细节的极致关注。总的来说,这本书是为那些追求极致性能、不满足于现有技术瓶颈的工程师准备的,它提供的是解决下一代光学难题所需的知识架构和前瞻性视野,读完后让人有一种迫不及待想要将理论付诸实践的冲动。

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