Transparent Conductive Tin Doped Indium Oxide

Transparent Conductive Tin Doped Indium Oxide pdf epub mobi txt 電子書 下載2026

出版者:
作者:Hultaker, Annette
出品人:
頁數:0
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出版時間:
價格:47.5
裝幀:
isbn號碼:9789155452438
叢書系列:
圖書標籤:
  • Indium Oxide
  • Transparent Conductive Oxides
  • Thin Films
  • Materials Science
  • Optoelectronics
  • Semiconductors
  • Doping
  • Tin Doped
  • Electrical Properties
  • Oxide Materials
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具體描述

好的,以下是關於一本名為《光電材料的晶體生長與性能調控》的圖書簡介,內容詳細且不包含您提到的特定書籍信息: --- 圖書名稱:光電材料的晶體生長與性能調控 內容簡介 本書係統而深入地探討瞭現代光電器件核心材料——寬禁帶半導體與氧化物半導體——的晶體生長技術、缺陷工程及其對宏觀電學和光學性能的精細調控。全書聚焦於材料科學的前沿領域,旨在為材料科學傢、器件工程師以及相關領域的研究人員提供一個全麵、實用的知識框架,以期在下一代高性能光電器件的研發中取得突破。 第一部分:基礎理論與材料體係概覽 本書伊始,首先迴顧瞭光電功能材料的基本物理化學性質,重點闡述瞭晶體結構、能帶理論在理解材料光電轉換機製中的關鍵作用。詳細分析瞭氮化物半導體(如GaN、AlGaN)和氧化物半導體(如ZnO、TiO2)在光電領域中的應用潛力及其內在的物理挑戰。 理論部分深入剖析瞭晶體生長過程中涉及的熱力學和動力學原理。內容涵蓋瞭如何通過相圖分析來指導外延生長過程,以及錶麵重建、界麵能壘等微觀過程如何影響最終薄膜的晶體質量。此外,還專門討論瞭本徵缺陷(如空位、間隙原子)和雜質缺陷在半導體材料中對載流子濃度、復閤效率和光緻發光特性的決定性影響,建立瞭缺陷濃度與宏觀性能之間的定量關聯模型。 第二部分:先進晶體生長技術 本書的第二部分是技術核心,詳細介紹瞭當前主流的薄膜外延生長方法,並著重比較瞭它們在不同材料體係中的適用性與局限性。 2.1 氣相外延技術(Vapor Phase Epitaxy, VPE) 本章節詳盡闡述瞭金屬有機物化學氣相沉積(MOCVD)和分子束外延(MBE)兩大核心技術。針對MOCVD,書中細緻分析瞭反應腔內的流場模擬、溫度梯度控製以及前驅體輸運過程對薄膜均勻性和生長速率的影響。特彆關注瞭在氮化物生長中,如何通過精確控製反應氣氛中的氫氣和氨氣比例來優化氮源的有效利用率。 對於MBE,重點講解瞭超高真空環境的維持、源材料的蒸發控製以及源腔溫度對生長速率和原子級沉積質量的精確控製。書中收錄瞭大量利用MBE實現超晶格結構和應變能帶工程的實例分析。 2.2 固相外延與溶液生長技術 除瞭氣相方法,本書還探討瞭固相外延(Solid Phase Epitaxy, SPE)在特定襯底兼容性問題上的應用潛力,以及通過水熱法(Hydrothermal Synthesis)和熔劑外延法(Flux Method)製備高質量塊狀單晶或異質結構氧化物材料的工藝參數優化。對溶液法中過飽和度的控製、成核與生長競爭機製進行瞭深入的理論剖析。 第三部分:性能的精細調控與缺陷工程 第三部分聚焦於如何通過主動乾預生長過程,實現對材料電學、光學性能的“按需定製”。 3.1 摻雜與補償機製 詳細論述瞭N型摻雜(如Si、O)和P型摻雜(如Mg、Zn)在不同半導體材料中的激活能、有效載流子濃度限製因素(如自補償效應)。特彆剖析瞭在氮化鎵基材料中實現穩定P型導電的物理瓶頸,以及當前解決策略中關於氫鈍化和後退火處理的動力學過程。 3.2 錶麵與界麵工程 晶體生長的關鍵在於控製界麵。本書探討瞭異質結結構中應變、位錯的演化機製,以及如何通過緩衝層設計來降低襯底與薄膜之間的失配。內容涵蓋瞭自組裝量子點(Self-Assembled Quantum Dots)的形成機製,以及如何利用應變梯度來引導納米結構的尺寸和分布。此外,對於界麵電子態(如二維電子氣)的形成,提供瞭詳細的能帶匹配分析。 3.3 缺陷的利用與抑製 缺陷不再被視為純粹的“雜質”,而是性能調控的工具。章節內容包括:如何通過輻照或熱處理引入或消除特定缺陷(如氧空位),以調控材料的導電類型或光緻發光中心波長。對缺陷光譜學(如光緻發光PL、電子束誘導電流EBI)在識彆和量化缺陷活性方麵的應用進行瞭詳盡的闡述。 第四部分:先進錶徵技術與質量評估 高質量的生長必須依賴精確的錶徵。本書介紹瞭用於評估晶體質量、化學組分和電子結構的尖端技術: 結構錶徵: 依賴於高分辨率透射電子顯微鏡(HR-TEM)對原子尺度的缺陷分析,結閤X射綫衍射(XRD)對晶格常數、應變狀態的精確測量。 電學性能: 霍爾效應、開爾文探針力顯微鏡(KPFM)在空間分辨的載流子測量和功函數評估中的應用。 光學性能: 橢偏光譜(SE)在薄膜厚度和光學常數原位監測中的優勢,以及低溫PL/CL在分析激發態和復閤機製中的重要性。 結語 《光電材料的晶體生長與性能調控》不僅是理論指導,更是實踐指南。通過對成功與失敗案例的深入剖析,本書旨在幫助讀者構建起從材料設計、生長工藝到最終器件性能的完整認知鏈條,推動高效率、長壽命光電器件的持續創新。 ---

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用戶評價

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當我看到“Transparent Conductive Tin Doped Indium Oxide”這個書名時,我的思緒立刻飄嚮瞭那些充滿未來感的智能設備。ITO,這個名字在科技界幾乎是傢喻戶曉的,但它的背後卻蘊含著精妙的科學和工程。這本書的書名讓我猜測,它是否會深入挖掘ITO這種材料的“魔力”所在?我一直很好奇,為什麼我們能夠在如此微小的尺度上,設計齣既能讓光綫自由穿梭,又能引導電子有序流動的材料?書中會不會從量子力學的角度去解釋ITO的電子結構和能帶理論?我非常期待能讀到關於ITO的摻雜機製是如何影響其導電和光學性質的詳細解釋,特彆是銦和锡這兩種元素是如何協同作用的。此外,ITO的製備工藝直接決定瞭其最終的性能,書中是否會詳細介紹各種沉積技術,例如PVD(物理氣相沉積)和CVD(化學氣相沉積),並對比它們的優劣勢?我希望這本書能夠帶領我進入ITO材料的微觀世界,理解其內在的運行規律,並窺探它在未來科技浪潮中扮演的關鍵角色。

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這本《透明導電氧化銦锡(ITO)》的書名本身就充滿瞭吸引力,讓人立刻聯想到那些薄如蟬翼卻能導電的奇妙材料。我對於材料科學一直抱有濃厚的興趣,尤其是那些在日常生活中無處不在卻又鮮為人知的高科技産品,ITO無疑就是其中一個絕佳的代錶。想象一下,我們的智能手機屏幕、平闆電腦的觸摸屏,甚至是那些炫酷的LED顯示器,它們之所以能夠實現觸控交互,發光成像,背後都有ITO的身影。這本書的題目讓我不禁好奇,它是否會深入淺齣地講解ITO這種材料的獨特之處?比如,它究竟是如何做到“透明”和“導電”這兩種看似矛盾的特性並存的?書中是否會探討影響ITO性能的關鍵因素,例如摻雜的比例、薄膜的製備工藝,以及如何通過這些參數來優化材料的電學和光學性能?我特彆期待它能描繪齣ITO從實驗室的微觀結構到工業化大規模生産的整個過程,其中必然充滿瞭無數的科學探索和工程智慧。同時,我也會關注書中是否會涉及ITO在未來新興技術中的應用前景,比如柔性電子、太陽能電池,甚至是一些更前沿的領域。總之,這本書的名字預示著一次關於高性能材料的深度遨遊,我迫不及待地想要一探究竟。

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我是一名對納米科技頗有研究的愛好者,而“透明導電氧化銦锡(ITO)”這個主題,在我看來,是連接宏觀世界與微觀奧秘的關鍵節點。ITO作為一種在微電子領域扮演著核心角色的功能材料,它的存在極大地推動瞭信息技術的革命。當我看到這本書的書名時,我首先想到的是,它很可能不僅僅是一本枯燥的教科書,而是一次關於如何精確控製原子尺度上的排列,從而賦予宏觀物體神奇能力的精彩講述。書中會不會詳細介紹ITO的晶體結構,以及銦和锡原子是如何在這種結構中扮演各自角色的?我特彆想知道,是什麼樣的內在機製讓它在保持高透光率的同時,又能實現優異的導電性?是缺陷的産生?還是載流子的輸運方式?此外,材料的製備過程對於ITO的性能至關重要,我希望書中能夠詳細闡述各種製備技術,例如濺射、蒸發、溶膠-凝膠法等等,並比較它們各自的優缺點,以及在不同應用場景下的適用性。這本書的書名讓我對材料閤成、結構錶徵和性能測試等一係列嚴謹的科學過程充滿瞭期待,也讓我聯想到瞭一係列關於材料設計和優化的創新思維。

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這本書的書名“Transparent Conductive Tin Doped Indium Oxide”勾起瞭我對材料科學一個非常具體且重要的分支的濃厚興趣。ITO,顧名思義,是一種在光學和電學上都具有特殊性能的氧化物。我一直對那些能夠跨越看似對立屬性的材料感到著迷,而ITO正是這樣一個典範。我希望這本書能夠從更宏觀的層麵,比如它在整個材料科學領域中的地位和重要性入手。它是否會探討ITO的曆史發展,以及它是如何從一個實驗室的發現逐漸演變成現代電子工業不可或缺的組成部分的?我特彆想知道,書中是否會詳細介紹ITO的電化學性能,比如其在不同環境下的穩定性和可靠性,以及如何通過錶麵處理來優化這些性能。此外,隨著技術的發展,人們對ITO的要求也在不斷提高,比如更高的導電性、更寬的可見光透過範圍,以及在柔性基底上的應用。這本書是否會討論這些前沿的挑戰,以及研究人員正在探索的新型ITO製備技術和改性方法?我期待這本書能夠為我提供一個全麵而深入的視角,理解ITO材料的過去、現在和未來。

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作為一名資深的電子工程從業者,我對“透明導電氧化銦锡(ITO)”這個標題下的內容充滿瞭職業性的好奇。ITO材料在現代電子設備中的重要性不言而喻,幾乎所有涉及屏幕顯示和觸控的設備都離不開它。這本書的書名讓我聯想到,它是否會提供一種係統性的視角來理解ITO的整個生命周期?從基礎的物理化學原理,到實際的工業生産工藝,再到最終在各種電子産品中的應用,這本書是否會一一串聯起來?我特彆關心書中對於ITO薄膜的生長動力學以及其微觀形貌與宏觀性能之間關係的探討。例如,如何控製薄膜的厚度、晶粒尺寸和錶麵粗糙度,以達到最佳的電阻率和透過率?書中是否會涉及ITO的失效機製以及如何提高其穩定性和壽命?我希望這本書能夠提供一些實用的指導,幫助工程師們更好地選擇和使用ITO材料,解決在實際産品開發中可能遇到的技術難題。同時,我也期待它能夠展望ITO材料的未來發展方嚮,比如如何應對日益增長的成本壓力,以及尋找更加環保和可持續的替代材料。

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