几何光学和光学设计

几何光学和光学设计 pdf epub mobi txt 电子书 下载 2026

出版者:浙江大学出版社
作者:李晓彤
出品人:
页数:0
译者:
出版时间:1997-06
价格:17.00
装帧:平装
isbn号码:9787308019217
丛书系列:
图书标签:
  • 几何光学
  • 光学设计
  • 光线追迹
  • 透镜设计
  • 光学系统
  • 成像原理
  • 屈光
  • 反射
  • 折射
  • 光学仪器
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具体描述

《现代材料科学基础与应用》 第一章:固体结构与晶体学导论 本章旨在为读者构建对凝聚态物质微观结构的系统认识。我们将从最基本的原子尺度出发,深入探讨固体材料的内部排列方式。内容涵盖晶格的概念、布拉格衍射原理及其在确定晶体结构中的应用。重点讲解常见的晶体结构类型,如面心立方(FCC)、体心立方(BCC)以及六方最密堆积(HCP),并详细分析它们对材料宏观力学性能(如硬度、延展性)的影响。此外,本章还会介绍晶体缺陷的分类——点缺陷(空位、间隙原子、取代原子)、线缺陷(位错)和面缺陷(晶界),阐述这些缺陷如何成为材料塑性变形和扩散现象的微观根源。通过对晶体学的深入理解,读者将能预见特定材料在特定加工条件下可能表现出的行为模式。 第二章:晶体缺陷的动力学行为 本章聚焦于材料内部各种缺陷的运动和相互作用。我们将探讨扩散理论的基础,包括Fick第一定律和第二定律,并详细分析原子在晶格中的扩散机制,如间隙扩散和空位机制。温度、晶界能和应力场如何影响扩散速率将被量化讨论。随后,我们将深入分析位错理论,这是理解金属塑性变形的核心。本章将详细介绍位错的类型(刃型、螺型、混合型),以及位错的运动机制——攀移和交滑移。通过分析位错的缠结、交割和钉扎现象,我们将解释加工硬化(Work Hardening)的微观机理。对扩散和位错动力学的掌握,是设计和优化材料加工工艺(如热处理、冷加工)的关键前提。 第三章:热力学与相图解析 材料的性能在很大程度上取决于其在不同温度和压力下的相组成。本章将系统介绍涉及材料系统的热力学基础,包括吉布斯自由能、化学势和相平衡条件。我们将重点学习如何解读和应用相图,从简单的二元相图(如固溶体系统、共晶系统)到更复杂的多元系统。内容包括液相线、固相线、溶解度极限的确定,以及通过杠杆原理计算相的相对含量。对于重要的热处理过程,如析出强化、时效处理,我们将结合相图分析相变的驱动力和动力学过程,帮助读者理解如何通过热处理精确调控微观结构以实现所需宏观性能。 第四章:金属合金的设计与性能 本章将理论知识应用于具体的金属合金体系。我们将从铁碳合金体系入手,详细剖析钢的冷却曲线、奥氏体分解过程以及珠光体、贝氏体、马氏体等关键组织结构。针对不同应用需求(如高强度、耐磨性、韧性),我们将介绍合金化元素的添加目的及其作用机理,例如镍对韧性的改善、铬对耐腐蚀性的贡献。随后,我们将扩展到非铁合金,如铝合金(用于航空航天)和铜合金(用于电气工程),分析其强化机制,包括固溶强化、沉淀强化和晶粒细化。本章的实践性强,旨在指导读者如何基于性能目标选择合适的合金材料并设计热处理方案。 第五章:高分子材料的结构与粘弹性 本章转向有机材料,探讨高分子化合物的独特结构——长链分子和缠结现象。我们将阐述高分子材料的分子量分布、链构型(构象)及其对材料特性的决定性影响。重点内容包括玻璃化转变温度(Tg)和熔点(Tm)的物理意义,以及如何通过化学方法(如交联、增塑)来控制这些转变温度。高分子材料的力学响应与金属材料截然不同,本章将引入粘弹性理论,用开尔文模型和麦克斯韦模型来描述高分子材料随时间变化的蠕变和应力松弛行为。理解高分子材料的动态力学分析(DMA)结果,是评估其在动态载荷或高温环境下可靠性的基础。 第六章:陶瓷与复合材料的界面工程 陶瓷材料以其优异的耐高温、耐腐蚀和电学性能而著称,但其脆性是主要的限制因素。本章将分析陶瓷材料的化学键合特征(离子键与共价键)如何导致其高硬度和低断裂韧性。我们将探讨氧化物、非氧化物陶瓷(如碳化硅、氮化硅)的制备工艺,如烧结过程中的致密化机制。随后,本章将重点讲解如何利用复合材料技术克服单一材料的缺陷。我们将详细分析纤维增强复合材料(如碳纤维增强环氧树脂、玻璃纤维增强塑料)的力学性能预测模型,特别是关于界面强度和应力传递效率的计算。界面工程是提升复合材料整体性能的关键,本章将涵盖界面相的形成与控制。 第七章:半导体材料的能带理论与器件基础 本章深入探讨电子材料的物理本质。内容从能带理论出发,解释导带、价带、费米能级和禁带宽度在区分导体、绝缘体和半导体中的作用。我们将详细分析本征半导体和掺杂半导体的载流子浓度、迁移率及其与温度的关系。随后,重点阐述n型和p型半导体的形成机制,以及PN结的形成、势垒区和双向导电特性。通过对欧姆接触和肖特基势垒的分析,读者将建立起对晶体管、二极管等电子器件工作原理的初步认识,为后续的微电子技术学习打下坚实的材料学基础。 第八章:材料的腐蚀与防护 材料的可靠性与其在环境中的稳定性密切相关。本章系统阐述金属腐蚀的电化学机理,包括阳极反应和阴极反应。我们将分类讨论不同类型的腐蚀,如均匀腐蚀、点蚀、缝隙腐蚀和应力腐蚀开裂(SCC),并分析影响腐蚀速率的环境因素(如pH值、氧含量)。最后,本章将介绍有效的腐蚀防护策略,包括牺牲阳极保护法、外加电流保护法、缓蚀剂的使用,以及通过涂层和表面改性技术(如渗碳、氮化)来提高材料的表面耐磨性和抗腐蚀性,从而延长结构件的使用寿命。

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读后感

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用户评价

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这本关于光线传播和成像原理的经典著作,着实让我对光学领域有了更深层次的理解。作者在阐述基础概念时,没有采用那种干巴巴的教科书式语言,而是用了一种非常直观、富有启发性的方式。比如,在讲解光的反射和折射时,他引入了大量的实际生活中的例子,让我一下子就抓住了问题的核心。书中的图示也设计得极为精妙,每一个光路图都清晰地展示了光线的行为,即便是复杂的几何结构,也能在图示的引导下迎刃而解。我尤其欣赏作者对于“光线追迹”这一核心方法的细致剖析。他不仅给出了数学公式,更重要的是解释了这些公式背后的物理意义,让我明白了为何某些设计选择是必需的,而不是武断的。读完这部分内容,我感觉自己仿佛站在了精密仪器的设计台前,手中拿着刻度尺和量角器,亲手在模拟光路。这本书的优点在于它的严谨性和实用性的完美结合,它不是那种只停留在理论层面空谈的教材,而是实实在在地为工程实践打下了坚实的基础。

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这本书的结构安排,体现了作者深厚的教学经验和对学科脉络的深刻理解。它从最基础的光线概念出发,逐步引向更复杂的成像理论,节奏把握得极其精准。对于初学者而言,它像一位耐心的向导,循序渐进地引导我们进入光学的殿堂;而对于有一定基础的人来说,它又像一个宝库,提供了许多细节丰富、解释深入的参考资料。我尤其赞赏作者在描述非球面透镜特性时的那一段文字。在传统的几何光学框架下处理非球面会涉及复杂的曲率计算,但作者巧妙地利用了特定坐标系下的微分几何概念,使得分析变得更加优雅和高效。这种在基础理论和前沿应用之间架起桥梁的能力,是这本书最大的亮点之一。读完这本书,我感觉自己不再是被动地接受知识,而是获得了主动分析和设计光学系统的思维工具箱。它不仅教会了我如何计算,更重要的是,培养了我对光学现象的直觉判断力。

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这本书的价值,绝不仅仅在于它提供了一套解决几何光学问题的流程,更在于它塑造了一种严谨的科学思维模式。作者在论述光线如何通过一系列光学元件时,那种对每一个边界条件、每一个媒介变化的精确捕捉,让人印象深刻。它没有过多涉及波动光学的内容,而是将几何光学本身的概念和应用推向了极致。例如,在讨论成像的几何放大率时,作者不仅给出了纵向和横向放大率的定义,还深入探讨了它们在倾斜入射光线下的变化规律,这对于设计广角或畸变要求高的系统极为关键。书中关于光焦度(power)的讲解,简洁而有力,它将透镜的物理特性抽象为可以方便组合和计算的量,极大地简化了系统级的设计工作。阅读体验非常扎实,几乎没有可以跳过的部分,因为每一个概念的建立都对后续的理解至关重要。这本书更像是一本设计手册和理论精讲的完美结合体,适合那些追求深度理解和精确应用的专业人士。

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我一直觉得,一本好的技术书籍,不仅要教会你“是什么”,更要让你明白“为什么”。这本书在这方面做得尤为出色。它并没有急于展示复杂的系统设计,而是花费了大量篇幅去构建一个坚实的概念基石。我特别喜欢其中关于光瞳和光圈定义的章节。作者没有将这些概念仅仅视为几何尺寸,而是深入探讨了它们在决定系统进光量和景深方面的关键作用。这种对物理本质的深挖,让我对“光圈优先”和“快门优先”在不同成像需求下的权衡有了全新的认识。书中的案例分析也相当到位,挑选的都是光学设计中的经典问题,比如如何设计一个简单的望远系统,或者如何校正常见的色散问题。通过这些具体的应用实例,我能清晰地看到理论是如何转化为实际产品的。阅读过程中,我时不时会停下来,拿出一张草稿纸,尝试重新推导一两个关键公式,而每一次的重新审视,都加深了我对光线行为的把握。这本书的知识密度很高,但组织得井井有条,值得反复研读。

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说实话,刚翻开这本书的时候,我还有些担心内容会过于枯燥,毕竟“几何光学”这四个字听起来就带着浓浓的数学味。然而,这本书的叙述方式成功地打破了我的预设。作者的笔触非常流畅,过渡自然,仿佛在进行一场精心编排的逻辑推理表演。他对于成像系统的矩阵描述方法,简直是点睛之笔。通过引入矩阵运算,原本繁琐的光线追迹计算一下子被简化成了一系列矩阵乘法,极大地提高了分析效率。这对于我这种偏好系统性思维的读者来说,简直是福音。书中对各种光学元件——透镜、反射镜、棱镜——特性的讲解,都建立在统一的数学框架下,使得融会贯通变得异常容易。此外,书中对像差的讨论也达到了很高的水平,不仅仅是罗列了像差的类型,更深入剖析了它们产生的根源和对成像质量的影响,这对于后续进行优化设计至关重要。总而言之,这本书为我提供了一个高屋建瓴的视角来看待复杂的光学系统。

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