质量分析与控制技术常识

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出版者:高等教育出版社(蓝色畅想)
作者:于万成
出品人:
页数:163
译者:
出版时间:2007-5
价格:14.30元
装帧:
isbn号码:9787040160826
丛书系列:
图书标签:
  • 质量分析
  • 质量控制
  • 检测技术
  • 可靠性
  • 统计分析
  • 过程控制
  • 质量管理
  • 工业工程
  • 生产管理
  • 实验技术
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具体描述

由于万成和王桂莲主编的《技能型紧缺人才培养培训系列教材:质量分析与控制技术常识》是数控技术应用专业领域技能型紧缺人才培养培训系列教材之一,是根据《中等职业学校数控技术应用专业领域技能型紧缺人才培养培训指导方案》中核心教学与训练项目基本要求编写的。

《质量分析与控制技术常识》主要内容包括:质量管理概述;ISO系列标准体系简介;质量控制基础知识;数控加工质量的控制方法和先进质量管理方法等。

《技能型紧缺人才培养培训系列教材:质量分析与控制技术常识》可作为数控技术应用专业领域技能型紧缺人才培养培训教材,也可作为职业院校机械类专业教材及机械工人岗位培训和自学用书。

现代光学成像系统设计与优化 本书导言: 在当代科技飞速发展的浪潮中,光学成像技术已渗透到我们生活的方方面面,从高精尖的太空探测到日常的医疗诊断,再到工业制造的精密检测,无不依赖于高质量的光学成像系统。然而,设计一个满足特定需求的高性能光学系统,绝非易事。它涉及到光线追迹的复杂计算、元件选型的严格考量、像差的精确控制,以及系统集成后的实际性能评估。本书旨在系统性地梳理和阐述现代光学成像系统的设计原理、优化策略与实践方法,为光学工程师、科研人员以及相关专业的学生提供一本兼具理论深度与工程实践价值的参考手册。 第一部分:光学成像系统的基础理论与元件特性 本部分将系统回顾光学成像的基础知识,为后续复杂系统的设计奠定坚实的基础。 第一章:几何光学基础与成像原理 本章首先深入探讨了光的几何光学模型,包括光的传播规律、反射定律与折射定律,重点分析了斯涅尔定律在光路设计中的应用。随后,详细阐述了理想成像系统的基本概念,如焦点、主平面、节点等。核心内容在于高斯光学(近轴光线理论)的应用,用于初步确定系统的基本结构参数,如焦距、放大倍率和场曲。我们还将引入边缘光线和子午光线概念,为分析场曲和像散等非理想像差做铺垫。最后,本章会涉及光阑与孔径的概念,解释它们如何影响系统的入瞳和出瞳,进而决定系统的接收能力和有效视场。 第二章:常用光学元件的精确表征 光学系统的性能高度依赖于所选元件的质量和精度。本章聚焦于透镜、反射镜和棱镜等核心光学元件的详细特性分析。对于透镜,我们将超越简单的凸透镜、凹透镜的分类,深入探讨球面透镜的制造公差、表面精度等级(如RMS、PV值)对成像质量的具体影响。针对反射镜,着重分析平面镜、球面反射镜以及非球面反射镜的衍射限制性能和表面粗糙度对散射光的影响。棱镜部分则侧重于其在光束转向、折叠和色散控制中的独特作用。此外,本章还将介绍特殊光学元件,如衍射光学元件(DOE)和微透镜阵列(MLA),讨论其在实现特定波前整形和超薄系统设计中的潜力与挑战。 第三部分:像差理论与控制策略 像差是限制所有非理想光学系统分辨率和对比度的根本原因。本部分是本书的核心,详细剖析了五种主要几何像差,并提供了现代设计中消除或抑制这些像差的工程化手段。 第三章:轴上像差的深入解析 本章专注于分析那些存在于系统光轴上的像差。首先是球差,通过光线追迹的实例展示其如何随光瞳位置变化,并详细介绍了校正球差的常用方法,例如采用不同曲率半径的两个透镜组合(如消球差双胶合镜组)或引入非球面表面。接着深入探讨场曲,它导致图像平面不是一个平面,而是曲面,我们将利用子午光线和边缘光线的相对聚焦位置差异进行定量分析,并介绍利用二组元或三组元镜组(如Petzval结构)来平坦像场的设计技巧。最后讨论轴上像散,尽管其在理想轴上不应存在,但在某些复杂设计中仍需关注其对轴上点的微小影响。 第四章:场外像差的量化与校正 场外像差是影响视场边缘成像质量的关键因素。本章重点分析彗差和畸变。彗差(Coma)的特点是不同高度的光线在像面上的弥散轨迹呈彗星状,本章将利用谢尔巴克(Seidel)像差系数来量化彗差的严重程度,并阐述如何通过控制双胶合透镜的间距和相对曲率来有效地消除彗差,以达到“等深”的成像质量。畸变(Distortion)则不影响像的清晰度,但会改变物体形状的再现比例,我们将区分桶形畸变和枕形畸变,并说明其与系统放大率变化的关系,以及在广角镜头和显微物镜设计中的处理方法。 第四章:衍射效应与调制传递函数(MTF) 本章将视角从几何光学转向物理光学,分析衍射极限对成像系统性能的终极制约。首先,讲解了傅里叶光学的基本原理,光瞳函数(Pupil Function)和点扩散函数(PSF)的数学描述。核心内容是调制传递函数(MTF)的推导与应用,解释了空间频率、对比度和MTF值之间的关系。我们将介绍如何通过MTF曲线来评估系统的整体性能,包括几何像差对MTF的影响(特别是低频部分)和衍射对MTF的影响(特别是高频部分)。本章还将涵盖光学传递函数(OTF)的概念,以及如何利用MTF来指导系统容差分析和最终的优化迭代。 第三部分:系统集成、公差分析与制造考量 一个理论上完美的设计,若无法在实际制造中实现,则毫无价值。本部分关注如何将设计转化为可制造、可装配的实际产品。 第五章:光学系统设计流程与优化算法 本章概述了现代光学设计从概念到最终定稿的完整流程。从需求规格书的分析(如MTF要求、视场角、波长范围)出发,选择合适的初始结构(如施密特-开普勒、特列姆-珀斯瓦尔等经典结构或新型自由曲面结构)。重点介绍现代优化算法,包括阻尼最小二乘法和模拟退火法在光学设计中的应用,解释如何设置合理的评价函数(Merit Function),将像差校正、系统长度限制、元件厚度限制等约束条件纳入优化过程。 第六章:公差分析与敏感性评估 任何制造和装配都会引入误差。本章详细阐述了公差分析(Tolerance Analysis)的重要性。首先定义了关键制造参数的容许误差范围,如元件定位误差(径向、轴向、倾斜)、表面精度误差、材料折射率偏差等。我们将采用蒙特卡洛模拟或基于灵敏度分析的方法,评估这些误差对最终MTF性能的影响。此外,本章还将介绍灵敏度分析,指导工程师识别设计中最脆弱的参数,从而确定哪些元件需要更严格的制造控制,哪些可以通过增加装配调整裕度来降低成本。 第七章:现代光学系统实例与前沿技术 为了将理论与实践相结合,本章选取了几个具有代表性的现代光学系统进行剖析。首先是高分辨率数码相机镜头的设计案例,分析其如何平衡畸变、场曲和色差。其次,深入探讨极紫外光刻(EUV)系统中的无介质光学设计挑战,重点讲解多层反射镜的原理及其在系统中的应用。最后,展望了自由曲面光学在下一代成像系统中的应用,包括如何使用Zernike多项式和T-曲面来突破传统球面/非球面透镜的限制,实现更轻薄、更高性能的光学模块。 结论: 本书致力于为读者提供一套扎实的、面向工程实践的光学系统设计方法论,确保从理论理解到最终产品实现的全过程可控。

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读后感

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用户评价

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我拿到这本厚厚的书时,心里是带着一点忐忑的,毕竟“质量分析与控制”听起来就挺硬核的。我希望它能像一本武功秘籍,揭示那些行业内人人都懂但外行人摸不着头脑的“套路”。这本书的排版上,大量使用了图表和流程图,这一点做得非常出色,对于理解复杂的分析过程尤其有帮助。我记得有一章专门讲测量系统的重复性和再现性(R&R),如果光看文字描述,我可能会一头雾水,但书里配的那张详细的实验设计图,一下子就帮我理清了思路。作者在行文时,似乎很注重读者的接受程度,他会先抛出一个行业痛点,然后循序渐进地介绍如何用工具去解决它。这感觉就像是跟着一位经验老到的老师傅在车间里转悠,他会指着一台设备告诉你:“你看,这就是问题发生的原因,我们得用这个方法去盯着它。” 这种叙述的节奏感把握得很好,让人在学习的过程中很少感到枯燥或迷失方向。它没有试图去展示最新的高精尖算法,而是扎扎实实地巩固那些经过时间检验的核心技能。

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这本书的封面设计得相当朴实,封面上除了书名和作者信息,几乎没有多余的装饰,这倒是挺符合内容本身的调性。我买这本书主要是想对这个领域的基础知识有个系统性的了解,尤其是那些被认为是“常识”的部分。翻开书后,我发现作者的叙述方式非常直接,就像一位经验丰富的工程师在跟你面对面讲解,没有太多华丽的辞藻,都是干货。比如,它对质量标准的定义、各种检测方法的原理,都讲得非常透彻。我特别喜欢它在讲解一些理论概念时,会立刻结合实际案例进行说明,这让抽象的知识点变得具体起来。比如,当讲到“SPC”的时候,书中立刻展示了控制图的构建过程和数据解读,而不是仅仅停留在理论层面。对于我这种需要快速上手的人来说,这种实践导向的写作风格简直是雪中送炭。唯一让我觉得稍微有点遗憾的是,某些章节在深入探讨最新技术趋势时显得略微保守,但考虑到这是一本偏向“常识”的入门读物,这种平衡是可以理解的。总的来说,作为打基础的教材,它非常称职,结构清晰,逻辑严密。

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这本书的厚度让人望而生畏,但真正深入阅读后,我发现它的结构设计非常人性化,更偏向于一本“参考手册”而非纯粹的理论教材。作者似乎非常注重知识点的可检索性。在每一个章节的末尾,都总结了本章的核心要点,并附带了一些拓展阅读的建议,这对于我这种需要经常回顾特定知识点的读者来说,简直太友好了。我尤其欣赏它在处理“失效模式与影响分析(FMEA)”时的详尽程度。它不仅讲解了如何打分,更重要的是,它深入探讨了如何确定风险优先数(RPN)背后的权重分配哲学,这在很多同类书中都是一带而过的内容。这让我意识到,质量控制的核心不仅在于执行,更在于判断和决策的艺术。这本书没有给我提供任何“一键生成完美质量报告”的捷径,而是脚踏实地地教我如何一步步建立起对产品质量的敬畏心和控制力。它教会我的,是如何以一种结构化的、可重复的方式去追求卓越。

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这本书的语言风格非常平实,没有太多学术性的“腔调”,读起来意外地流畅。我是在一个比较紧张的工作间隙时间里阅读它的,原本担心会因为信息量太大而效率低下,但作者的逻辑链条构建得非常清晰,仿佛每段文字都有明确的目的地。特别是关于质量改进方法的介绍部分,它将我们熟悉的PDCA循环与更具体的六西格玛工具进行了巧妙的嫁接,使得改进活动不再是空泛的口号,而是可以量化、可追踪的具体步骤。我发现书中在描述一些检验规程时,引用了大量的行业标准术语,但都配有清晰的注释,确保了即使是对标准不太熟悉的读者也能迅速跟上。我个人认为,这本书的价值在于,它为你提供了一套完整的思维框架,让你在面对一个新问题时,能迅速地将其归类到“是测量的偏差?是原材料的问题?还是设备维护不足?”等范畴内,而不是盲目地从头开始摸索。这套框架的建立,无疑是提升工作效率的关键。

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读完前三分之一的内容,我最大的感受是:这本书的“常识”二字名副其实,但内涵远超我的预期。它不是那种走马观花的介绍,而是对基础概念进行了近乎哲学的探讨。例如,关于“变异”的理解,作者花了相当大的篇幅来区分随机变异和系统性变异,并且探讨了它们对最终产品可靠性的深层影响。这种对根源问题的刨根问底,让我对后续的分析技术有了更深刻的理解。书中对统计学工具的应用讲解得非常谨慎且到位,它不像某些教材那样直接抛出公式,而是先解释为什么需要这个工具,它解决了哪个层次的问题,最后才是如何操作。我尤其欣赏作者在处理“过程能力”这一章节时的严谨态度,他不仅列举了Cp和Cpk的计算,还细致地分析了在非正态分布情况下如何选择合适的指标,这体现了作者深厚的实践经验。这本书更像是一本“工具箱的说明书”,详细告诉你每件工具的使用场景、局限性以及如何保养,而不是简单地教你如何快速完成一项工作。

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