前言第1章 引論 1.1 科學內容 1.2 實驗技術 1.3 展望 參考文獻第2章 半導體晶體的高分辨x射綫衍射 2.1 引言 2.2 半導體晶體結構與結構缺陷 2.3 X射綫平麵波的衍射 2.4 高分辨X射綫衍射的限束 2.5 異質外延多層膜的X射綫雙晶衍射 2.6 三軸衍射 2.7 晶格參數的精確測量 2.8 鑲嵌結構的測量 2.9 鏡麵反射與麵內掠入射 參考文獻 附錄第3章 光學性質檢測分析 3.1 引言 3.2 半導體光緻發光 3.3 半導體的陰極熒光 3.4 吸收光譜及與其相關的薄膜光譜測量方法 3.5 拉曼散射 參考文獻第4章 錶麵和薄膜成分分析 4.1 引言 4.2 俄歇電子能譜 4.3 X射綫光電子譜 4.4 二次離子質譜 4.5 盧瑟福背散射 參考文獻 附錄第5章 掃描探針顯微學在半導體中的運用 5.1 引言 5.2 掃描隧道顯微鏡的基本原理 5.3 用STM分析錶麵結構 5.4 掃描隧道譜 5.5 彈道電子發射顯微鏡 5.6 原子力顯微鏡 5.7 原子力顯微鏡用於錶麵分析 5.8 掃描電容顯微鏡 5.9 靜電力顯微鏡 5.10 磁力顯微鏡 5.11 掃描近場光學顯微鏡 5.12 原子操縱與納米加工 參考文獻第6章 透射電子顯微學及其在半導體研究中的應用 6.1 引言 6.2 透射電子顯微鏡的基本構造及工作原理 6.3 顯微像襯度 6.4 其他技術 6.5 應用實例 6.6 結語 參考文獻 附錄第7章 半導體深中心的錶徵 7.1 深能級瞬態譜技術 參考文獻 7.2 熱激電流 參考文獻
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