第一章 电子轰击离子源等离子体特性及设计基础 1
第一节 等离子体特性参数 4
第二节 离子源的电效率及气体利用率 28
第二章 离子光学系统及基本设计方法 46
第一节 双栅离子光学系统 48
第二节 谐振电荷交换及束流修正 67
第三节 束流均匀性及特殊离子光学系统 72
第四节 三栅和单栅离子光学系统 80
第五节 栅板热稳定性研究 89
第三章 离子源结构设计优化法 93
第一节 多板场离子源放电室结构及磁场 94
第二节 发散场离子源放电室结构及磁场 107
第三节 其他几种宽束离子源 126
第四章 离子源阴极的设计方法 141
第一节 放电室阴极和浸没式中和阴极 142
第二节 空心阴极 149
第三节 氩等离子体桥式中和器（PBN） 161
第四节 磁挡板 168
第五章 离子束刻蚀（IBE）工艺基础 172
第一节 IBE在干法刻蚀工艺中的地位 177
第二节 离子溅射效应 179
第三节 IBE刻蚀速率及入射角效应 188
第四节 离子轰击引起的材料损伤和温度效应 217
第五节 工质气体的作用及IBAE方法
第六节 离子束刻蚀均匀性及终点检测方法 249
第七节 掩模特性对IM图形轮廓的影响 267
第六章 IBE在器件制造中的应用 271
第一节 离子束刻蚀在多种器件制造工艺中的应用 271
第二节 宽束离子源应用中的一些问题 309
参考文献 314
· · · · · · (收起)