第一章 電子轟擊離子源等離子體特性及設計基礎 1
第一節 等離子體特性參數 4
第二節 離子源的電效率及氣體利用率 28
第二章 離子光學係統及基本設計方法 46
第一節 雙柵離子光學係統 48
第二節 諧振電荷交換及束流修正 67
第三節 束流均勻性及特殊離子光學係統 72
第四節 三柵和單柵離子光學係統 80
第五節 柵闆熱穩定性研究 89
第三章 離子源結構設計優化法 93
第一節 多闆場離子源放電室結構及磁場 94
第二節 發散場離子源放電室結構及磁場 107
第三節 其他幾種寬束離子源 126
第四章 離子源陰極的設計方法 141
第一節 放電室陰極和浸沒式中和陰極 142
第二節 空心陰極 149
第三節 氬等離子體橋式中和器（PBN） 161
第四節 磁擋闆 168
第五章 離子束刻蝕（IBE）工藝基礎 172
第一節 IBE在乾法刻蝕工藝中的地位 177
第二節 離子濺射效應 179
第三節 IBE刻蝕速率及入射角效應 188
第四節 離子轟擊引起的材料損傷和溫度效應 217
第五節 工質氣體的作用及IBAE方法
第六節 離子束刻蝕均勻性及終點檢測方法 249
第七節 掩模特性對IM圖形輪廓的影響 267
第六章 IBE在器件製造中的應用 271
第一節 離子束刻蝕在多種器件製造工藝中的應用 271
第二節 寬束離子源應用中的一些問題 309
參考文獻 314
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