Transient-Induced Latchup in CMOS Integrated Circuits

Transient-Induced Latchup in CMOS Integrated Circuits pdf epub mobi txt 电子书 下载 2026

出版者:
作者:Ker, Ming-dou/ Hsu, Sheng-Fu
出品人:
页数:320
译者:
出版时间:2009-8
价格:1221.00 元
装帧:
isbn号码:9780470824078
丛书系列:
图书标签:
  • CMOS
  • Latchup
  • Transient
  • Integrated Circuits
  • IC Design
  • Reliability
  • Power Integrity
  • Circuit Analysis
  • VLSI
  • Semiconductor Devices
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具体描述

The book all semiconductor device engineers must read to gain a practical feel for latchup-induced failure to produce lower-cost and higher-density chips. Transient-Induced Latchup in CMOS Integrated Circuits equips the practicing engineer with all the tools needed to address this regularly occurring problem while becoming more proficient at IC layout. Ker and Hsu introduce the phenomenon and basic physical mechanism of latchup, explaining the critical issues that have resurfaced for CMOS technologies. Once readers can gain an understanding of the standard practices for TLU, Ker and Hsu discuss the physical mechanism of TLU under a system-level ESD test, while introducing an efficient component-level TLU measurement setup. The authors then present experimental methodologies to extract safe and area-efficient compact layout rules for latchup prevention, including layout rules for I/O cells, internal circuits, and between I/O and internal circuits. The book concludes with an appendix giving a practical example of extracting layout rules and guidelines for latchup prevention in a 0.18-micrometer 1.8V/3.3V silicided CMOS process. Presents real cases and solutions that occur in commercial CMOS IC chips Equips engineers with the skills to conserve chip layout area and decrease time-to-market Written by experts with real-world experience in circuit design and failure analysis Distilled from numerous courses taught by the authors in IC design houses worldwide The only book to introduce TLU under system-level ESD and EFT tests This book is essential for practicing engineers involved in IC design, IC design management, system and application design, reliability, and failure analysis. Undergraduate and postgraduate students, specializing in CMOS circuit design and layout, will find this book to be a valuable introduction to real-world industry problems and a key reference during the course of their careers.

《瞬态诱导闩锁效应在CMOS集成电路中的研究》 本书深入探讨了CMOS集成电路中一种极具破坏性的失效机制——瞬态诱导闩锁效应(Transient-Induced Latchup,TIL)。闩锁效应一旦发生,会导致电路进入一种低阻抗状态,消耗过大的电流,可能对电路造成永久性损坏,甚至引发器件过热、烧毁等严重后果。尽管TIL现象对现代集成电路的可靠性构成了严峻挑战,但理解其发生机理、预测其发生概率以及开发有效的防护策略,对于确保高性能、高可靠性CMOS产品的成功设计和生产至关重要。 本书内容丰富,结构清晰,旨在为读者提供一个全面而深入的视角来理解TIL。具体而言,本书的章节安排如下: 第一章:CMOS集成电路基础与闩锁效应概述 CMOS器件结构与工作原理: 详细介绍CMOS技术中的基本器件,包括PMOS和NMOS晶体管,以及它们的制造工艺和电学特性。在此基础上,阐述CMOS反相器、基本逻辑门等核心电路的工作原理。 闩锁效应的物理机理: 深入剖析CMOS结构中寄生的PNPN结构,即功率型PNP晶体管和NPN晶体管的相互作用。解释当触发条件满足时,这些寄生器件如何形成正反馈回路,从而导致闩锁效应的发生。 闩锁效应的分类与表现: 区分不同的闩锁效应类型,例如静态闩锁(Static Latchup)和瞬态诱导闩锁(Transient-Induced Latchup)。详细描述闩锁效应在电路中实际表现出的现象,如电流的突然增大、输出电压的跌落以及器件的损坏模式。 闩锁效应的危害与影响: 阐述闩锁效应对集成电路性能、可靠性、功耗以及安全性的多方面负面影响。强调在高性能、低功耗的CMOS设计中,对闩锁效应的有效控制是不可或缺的。 第二章:瞬态诱导闩锁效应(TIL)的触发机制 瞬态扰动的来源: 详细分析导致TIL发生的各种瞬态扰动源。这包括但不限于: 静电放电(Electrostatic Discharge, ESD): 重点阐述ESD事件如何通过注入电荷、产生瞬时高电压和高电流来触发寄生PNPN结构。 电磁干扰(Electromagnetic Interference, EMI): 分析外部电磁场耦合到电路中,产生的瞬态电压和电流如何诱发闩锁。 电源噪声和瞬变: 探讨不稳定的电源供应,如电压跌落(Brownout)或电压尖峰,如何影响器件的电势分布,从而可能触发闩锁。 芯片内部信号瞬变: 分析高速信号切换、内部节点电荷注入等内部活动可能产生的瞬态效应。 PNPN结构中的触发过程: 详细讲解在不同瞬态扰动下,PNPN结构中的触发过程。分析载流子注入、电压升高、结击穿等关键事件如何启动正反馈回路。 触发阈值电压与电流: 定义和分析触发TIL的阈值电压(Vt1)和阈值电流(It1)。解释这些阈值如何受到器件结构、工艺参数以及工作条件的影响。 瞬态参数对触发的影响: 探讨瞬态扰动的时间宽度、上升/下降时间、幅度等参数对触发TIL的影响。理解快速、高幅值的瞬态扰动更容易诱发闩锁。 第三章:TIL在不同CMOS电路中的表现与分析 基本CMOS逻辑门中的TIL: 分析CMOS反相器、NAND门、NOR门等基本逻辑门在TIL触发下的行为。展示其电流-电压特性曲线的变化,以及逻辑功能失效的表现。 复杂CMOS电路中的TIL: 扩展分析TIL在更复杂的集成电路结构中,如锁存器、触发器、计数器、ADC/DAC等电路中的表现。探讨TIL可能在哪些关键节点发生,以及其对电路整体功能的影响。 I/O接口电路中的TIL: 重点关注CMOS I/O接口电路,因为它们直接与外部环境交互,更容易受到ESD等瞬态扰动的影响。分析I/O缓冲器、保护二极管等结构在TIL下的行为。 存储器电路中的TIL: 探讨TIL在SRAM、DRAM等存储器阵列中的潜在影响,以及其可能导致的存储单元数据损坏或读写错误。 模拟与混合信号电路中的TIL: 分析TIL对运算放大器、滤波器、PLL等模拟和混合信号电路性能的 Degradation。 第四章:TIL的仿真与建模技术 SPICE模型与寄生参数提取: 介绍如何利用SPICE等电路仿真器对CMOS电路进行详细分析。阐述如何从器件结构和工艺参数中提取寄生的PNPN结构参数,以及如何将其集成到仿真模型中。 瞬态仿真技术: 讲解在SPICE等仿真器中进行瞬态仿真的方法,包括如何设置瞬态激励源(如脉冲、阶跃信号)来模拟ESD、EMI等扰动。 行为级建模: 介绍行为级建模技术,用于快速评估大规模集成电路中TIL的潜在风险,而无需进行详细的器件级仿真。 TCAD仿真: 探讨利用Technology Computer-Aided Design (TCAD)工具进行更深层次的物理机理研究,包括载流子行为、结电场分布以及瞬态过程的仿真。 统计仿真与蒙特卡洛分析: 介绍如何利用蒙特卡洛方法进行统计仿真,以评估在工艺变化和工作条件变化下TIL发生的概率。 第五章:TIL的防护与抑制策略 器件级设计技术: 结构优化: 探讨如何通过优化PMOS和NMOS器件的几何形状、沟道长度、扩散区深度、栅氧化层厚度等参数,来提高器件的触发阈值和耐受能力。 P-well/N-well的掺杂与隔离: 分析P-well和N-well区域的掺杂浓度和隔离结构(如STI)对寄生PNPN结构的电阻和电容的影响,以及如何通过优化来降低闩锁敏感性。 基区厚度的控制: 讲解基区厚度对寄生BJT增益的影响,以及如何通过控制基区厚度来抑制闩锁。 地线和电源线的布局: 讨论合理的地线和电源线布局,以减少瞬态噪声的耦合和传播。 电路级防护技术: 注入式保护结构: 详细介绍各种注入式保护结构,如MOS控制的SCR(Silicon Controlled Rectifier)、Diode-Enhanced SCR等,以及它们的工作原理和设计考虑。 退耦电容和旁路电容: 阐述如何通过在关键节点布置去耦电容和旁路电容,来吸收瞬态噪声,降低其对电路的影响。 限流电阻和二极管钳位: 介绍在关键路径上加入限流电阻或二极管钳位,以限制瞬态电流的幅度。 阈值提升技术: 探讨各种阈值提升技术,以提高电路的触发闩锁电压。 系统级防护策略: ESD防护网络设计: 关注整个芯片的ESD防护网络设计,包括端口保护器件、内部保护电路的协同工作。 PCB布局与布线: 强调PCB布局、布线策略以及使用屏蔽层等措施,来降低外部EMI对芯片的影响。 电源管理与滤波: 讨论有效的电源管理和滤波方案,以确保电源的稳定性。 工艺层面的防护: 介绍一些特定工艺技术中用于抑制闩锁的特殊措施。 第六章:TIL的测试与可靠性评估 ESD测试方法: 详细介绍标准化的ESD测试方法,如人体模型(HBM)、机器模型(MM)和充电设备模型(CDM),以及它们的测试流程和判据。 芯片级TIL测试: 介绍如何设计芯片内部的TIL测试电路,以及如何进行实际的TIL触发测试,以验证防护设计的有效性。 可靠性评估方法: 探讨如何结合长时间运行测试、加速寿命试验等方法,来评估CMOS集成电路在存在TIL风险下的长期可靠性。 失效分析: 讲解在发生TIL失效后,如何通过失效分析技术(如显微镜检查、电学特性测试、物理失效分析等)来定位失效原因。 第七章:未来发展趋势与挑战 更小的工艺节点下的TIL: 讨论随着CMOS工艺节点的不断缩小,器件尺寸的减小和密度的增加,TIL的挑战和应对策略。 新型材料与器件对TIL的影响: 探讨在新型半导体材料(如GaN, SiC)以及新型器件结构(如FinFET, GAAFET)中,TIL的发生机理和防护方法。 人工智能在TIL分析中的应用: 展望人工智能和机器学习技术在TIL预测、防护设计和失效分析中的潜在应用。 更严格的可靠性标准: 讨论行业对CMOS集成电路可靠性提出的更高要求,以及TIL研究在其中扮演的角色。 本书通过理论分析、仿真验证和实践经验的结合,为读者提供了一个全面深入的TIL研究平台。无论您是CMOS电路设计工程师、芯片可靠性工程师、还是相关的学术研究人员,本书都将是您理解、预测和有效解决瞬态诱导闩锁效应问题的宝贵参考。

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这本书初次翻阅时,那种对半导体物理细节的执着探索立刻抓住了我的眼球。作者显然没有满足于教科书上那种浅尝辄止的描述,而是深入到了工艺参数的微观层面,将那些在实际晶圆厂中令人头疼的“疑难杂症”提炼成了清晰的理论模型。我尤其欣赏他对**器件设计裕度和工艺窗口**的探讨,这部分内容对于一个致力于提升芯片可靠性和良率的资深工程师来说,简直是宝典级别的参考。书中对各种**寄生效应**的建模非常精细,不再是简单的电阻电容计算,而是融入了更复杂的双极型晶体管结构在瞬态过压下的激活机制。阅读过程中,我仿佛跟着作者一起走进了SEM显微镜下,观察了那些肉眼不可见的PN结反向偏置和载流子注入过程的动态演化。对于那些追求极致性能和长期可靠性的设计团队,这本书提供的理论深度,远超出了对“闩锁效应”这个术语的表面理解,它更像是一部关于如何**预防和规避**这些隐性故障的行动指南,内容详实到足以作为新人培训手册的基石。

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我对这本书在**版图设计层面**的指导价值给予高度评价。在现代IC设计中,代码和仿真固然重要,但最终的物理实现往往决定了生死。这本书并未将重点放在标准的DRC/LTV检查上,而是深入到了**版图布局的“软规则”**。作者细致地剖析了不同输入/输出缓冲器布局的对称性对瞬态电流路径的影响,以及如何通过优化器件间距和衬底接触网格来有效钳制瞬态电压尖峰。特别是关于**“热点”效应与闩锁关联**的讨论,提供了非常实用的指导:它不仅仅是关于散热,更是关于在高温环境下,PN结恢复时间变慢导致的潜在累积效应。对于那些常常在后端设计阶段被莫名其妙的闩锁事件困扰的设计师来说,这本书提供的视角是革命性的。它让你重新审视每一个PAD的放置、每一个ESD二极管的连接,这些看似微小的决定,在极端工况下都可能成为压垮骆驼的稻草。

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这本书给我带来的最大震撼是其**跨学科的整合能力**。它巧妙地将**电磁兼容性(EMC)**的基本原理引入到对芯片内部瞬态事件的分析中。很多工程师将闩锁视为纯粹的器件物理问题,但作者成功地论证了外部高速信号的串扰和快速的开关活动如何在系统层面产生足以触发内部闩锁的“耦合激励”。书中对**地弹噪声的传播模型**的细致刻画,以及如何将这些模型集成到系统级仿真工具中,是非常具有开创性的。这促使我们必须跳出单颗芯片的封装限制去思考可靠性问题。总而言之,这本书的价值在于它提供了一种**系统化、多尺度**的分析框架,将瞬态诱发的闩锁问题从一个孤立的器件故障点,提升到了一个需要从工艺、版图到系统集成层面共同应对的复杂工程挑战。

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这本书的叙事节奏和结构安排,展现了一种近乎学究式的严谨,但这种严谨并非枯燥,而是建立在对实际工程问题的深刻洞察之上。我注意到作者在阐述**触发机制**时,大量采用了类比和分步解析的方法,使得即便是对CMOS器件物理不甚熟悉的读者,也能逐步建立起对复杂瞬态事件的直观感受。例如,书中对电源轨抖动(Power Rail Bouncing)如何通过衬底耦合引发潜在闩锁的分析,逻辑链条清晰得令人信服。但真正让我眼前一亮的是其关于**测试和诊断方法**的章节。它不仅仅停留在理论预测,更提供了多种实验验证的方案,甚至提到了在不同温度和电压梯度下如何系统地捕捉到罕见的触发事件。这种从理论到实践,再回归理论完善的闭环思维,是许多纯理论书籍所欠缺的。它迫使读者思考:我们如何知道自己的设计是“真的”安全,而不是仅仅在标准测试条件下通过?这本书提供了一套更具批判性的视角。

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从排版和专业术语的运用来看,这本书无疑面向的是高级研究人员和资深开发工程师。它的语言风格非常**克制且专业**,几乎没有冗余的修饰词,每一个公式和图表的引用都直指核心问题。我欣赏作者在介绍**新型抗闩锁结构**时所展现出的广阔视野,他不仅回顾了经典的共源共栅结构的应用局限性,还探讨了基于FinFET等先进节点架构下,传统Latchup机制可能发生的变异和新的失效模式。这种对技术演进的把握,使得这本书具有很强的**前瞻性**。虽然某些涉及高级半导体器件物理的章节需要多次阅读才能完全消化,但这恰恰说明了其内容的密度和深度。它不是那种读完就束之高阁的快餐读物,而是一本需要时不时翻阅,并在实际工作中对照验证的**工具书**。

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