实用镀膜技术

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页数:513
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出版时间:2008-3
价格:58.00元
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isbn号码:9787121060854
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  • 专业
  • 镀膜技术
  • 薄膜技术
  • 材料科学
  • 表面工程
  • 光学镀膜
  • 真空镀膜
  • 物理气相沉积
  • PVD
  • CVD
  • 涂层技术
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具体描述

《实用镀膜技术》从实用的角度出发,对镀膜技术中最常用的干式镀膜中的物理气相沉积、湿式镀膜(液相沉积)中的电镀方面的知识做较为系统的介绍,不少内容是实际工作的经验总结,可以直接用于生产。

第1篇,重点阐述了真空蒸镀、溅射镀膜、离子镀的工作原理、镀膜方法及设备构造,并对电源电控、PLC控制的自动化镀膜系统的硬件设计和软件编程的相关内容做了比较详细的介绍。第2篇重点介绍了液相沉积中有关电镀的某些内容,其中包括电镀金、银、铜、铬、镍、钯及其合金的镀膜方法及工艺、技术难点、电镀液配方及不合格产品的处理办法。另外还对电镀设备、电源及自动生产线的设计、应用做了较为全面的论述。第3篇介绍了镀膜前处理工艺流程及其设备和电镀的废水处理方法及其设备。第4篇是膜层质量及检测方面的内容。

《实用镀膜技术》不求内容完备,只求实用和创新。文字通俗易懂,有利于对基础知识的理解、掌握与运用。内容新颖,收集了近些年来镀膜技术中的新发明和新成果的一些内容。

《高分子材料的结构与性能》 内容概要: 本书深入探讨了高分子材料从微观结构到宏观性能之间的内在联系。全书分为六个主要部分,全面覆盖了高分子化学、物理学以及工程应用的核心知识。 第一部分:高分子基础与合成 本部分首先介绍了高分子科学的基本概念,包括单体、聚合度、分子量分布的表征方法,如凝胶渗透色谱(GPC)和粘度法。重点讲解了不同类型的聚合反应机制,包括自由基聚合、离子聚合、配位聚合和缩聚反应。详细阐述了引发剂的选择、反应动力学控制以及如何利用这些机制精确调控聚合物的分子量和分子量分布(如窄分布的实现)。此外,还深入分析了共聚物的结构设计,如无规共聚、嵌段共聚和接枝共聚,及其对材料性能带来的显著影响。我们还将讨论新型绿色合成方法,如可控/“活性”自由基聚合(ATRP, RAFT)在精细聚合物结构构建中的应用。 第二部分:高分子链的构象与动力学 本部分聚焦于聚合物链在空间中的行为。从统计力学角度出发,解释了理想链模型(如随机游走模型)与真实高分子链(如排除体积效应)之间的差异。详细分析了链段运动的理论基础,包括基于自由体积理论的粘弹性行为描述。对高分子在不同温度下的松弛过程进行了深入探讨,区分了α、β等多种弛豫过程及其对应的分子运动机制。利用动态机械分析(DMA)和热机械分析(TMA)等实验技术,阐释了如何通过测量储能模量和损耗因子来表征聚合物的粘弹性特性和玻璃化转变温度($T_g$)。 第三部分:高分子固态结构与相态 本部分着重于高分子材料的微观结构对宏观性能的决定性影响。详细区分了无定形聚合物和结晶性聚合物的结构特征。对于结晶聚合物,系统阐述了晶体的形成过程(成核与生长)、球晶的形态学特征、结晶度测定方法(如差示扫描量热法, DSC)以及结晶对材料力学性能、光学性能和阻隔性能的调控作用。对于无定形聚合物,重点讨论了玻璃化转变现象,探讨了影响$T_g$的因素,如分子链刚性、侧基大小以及增塑剂的作用。此外,还涉及了向列相、手性相等液晶聚合物的结构特征与排序机制。 第四部分:高分子材料的力学性能 本部分是理解聚合物工程应用的关键。从经典的线弹性理论出发,介绍了杨氏模量、泊松比等弹性常数。随后,深入分析了高分子材料的粘弹性行为,引入了蠕变、应力松弛等时间依赖性概念,并使用Maxwell模型、Voigt模型等经典模型进行描述。重点讨论了高分子材料的屈服、硬化、断裂等非线性力学行为,特别是剪切带的形成机制和韧性断裂过程。此外,还详细介绍了纤维增强复合材料中的界面作用力学分析方法,以及疲劳损伤和应力开裂的机理研究。 第五部分:高分子加工工艺与性能优化 本部分将理论知识与实际制造过程相结合。详细介绍了挤出、注塑、吹塑、压延等主要的聚合物成型加工工艺。深入分析了加工过程中剪切速率、温度、压力等工艺参数对聚合物熔体流变行为的影响,以及这些参数如何最终决定制品的微观结构(如取向度)和最终性能。探讨了如何通过控制冷却速率来优化结晶形态,以及如何利用拉伸取向技术来提高纤维和薄膜的拉伸强度和韧性。本章还包括了对聚合物共混物(Blends)和合金(Alloys)的相容性、相分离结构控制及其性能增强策略的讨论。 第六部分:功能性高分子与应用 最后一部分面向前沿应用,介绍了具有特定功能的高分子材料。包括导电聚合物(如聚苯胺、聚吡咯)的电化学合成与导电机制;光敏聚合物和光刻胶在微电子工业中的应用;以及医用高分子材料(如生物相容性、可降解性聚合物)在药物缓释和组织工程中的设计原理。同时,对高分子膜分离技术(如渗透、超滤、纳滤)的原理及其在气体分离、水净化中的应用进行了详尽的论述,强调了膜的孔隙结构、化学组分和渗透选择性之间的关系。 本书旨在为材料科学、化学工程、机械工程及相关领域的研究人员和工程师提供一本全面、深入且具有实践指导意义的参考书。通过对分子结构、加工过程和宏观性能之间复杂关系的系统梳理,读者将能更好地理解和设计高性能高分子材料。

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读后感

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用户评价

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说实话,拿到这本书之前,我对镀膜技术抱持着一种“高深莫测”的印象,总觉得这是少数专家才能掌握的领域。然而,这本书的叙事风格非常平易近人,读起来一点没有枯燥感。作者似乎在用一种同行的身份与读者对话,语言风格诙谐而不失专业,使得那些原本拗口的专业术语也变得生动起来。例如,在讨论膜层与基底的附着力问题时,作者没有使用冷冰冰的公式堆砌,而是用了一个非常形象的比喻来解释界面化学键合的重要性,让人瞬间茅塞顿开。此外,书中穿插的许多“专家提示”小栏目,如同点拨迷津的良师益友,总能在关键节点给予及时的提醒和建议,避免了我们在实际操作中可能陷入的误区。这种注重读者体验的写作方式,极大地降低了学习的技术门槛,让我想一步步深入探索镀膜世界的奥秘。

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我是一名专注于材料分析的实验员,我们日常工作更多关注的是表征手段,对于镀膜过程的控制环节了解相对有限。这本书的出现,极大地弥补了我的知识短板。它对镀膜过程中温度、压力、气体流量等核心参数如何耦合影响最终膜层质量的描述,逻辑链条非常完整。书中对几种主流镀膜设备(如磁控溅射、热蒸发)的详细剖析,不仅描述了它们的工作原理,还细致地对比了各自在不同材料沉积时的优缺点和适用场景,这一点对于设备选型和工艺兼容性评估非常有价值。更让我惊喜的是,它还涉及到了后处理技术,比如激光退火和离子束辅助沉积,这些后续步骤对薄膜性能的微调作用,往往被初学者忽略,但书中给予了足够的篇幅进行深入探讨,这体现了作者对技术全面性的追求。

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这本书的装帧设计很用心,封面色彩沉稳,字体选择也显得专业而有质感。初次翻阅时,我就被它详尽的目录结构所吸引,从基础的材料科学原理,到各类镀膜工艺的深入解析,再到实际应用中的质量控制和故障排查,条理清晰,逻辑严密。特别是对于新手来说,书中对一些复杂的物理化学概念的阐述,采用了大量的图表和示意图辅助说明,使得原本晦涩难懂的内容变得直观易懂。比如,书中对薄膜应力形成机制的分析,不仅给出了理论模型,还结合了实际的实验数据进行验证,这对于理解镀膜过程中的关键参数控制至关重要。作者在内容编排上显然花了不少心思,能感觉到他们是真正站在一线工程师的角度来组织材料的,很多细节处理得非常到位,比如对不同基底材料预处理方法的详尽描述,以及不同真空系统下操作的注意事项,这些都是教科书上很少能深入涉及的宝贵经验。阅读过程中,我时不时会停下来思考,书中提供的案例分析,很多都源于现实工业生产中的真实难题,这极大地提升了学习的实践价值。

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这本书的内容深度和广度都超出了我的预期,它不仅仅停留在对镀膜技术本身的介绍,更深入探讨了镀膜在现代精密制造中的战略地位。我特别欣赏作者对前沿技术趋势的把握,比如对等离子体增强技术(PECVD)和原子层沉积(ALD)的最新进展的追踪和评估。书中对这些高新技术原理的讲解,既保持了科学的严谨性,又兼顾了工程应用的可行性分析,令人耳目一新。特别是关于多层/超晶格膜系的制备与表征部分,作者引用了大量的最新文献和原创数据,清晰地阐述了如何通过能带工程设计来优化薄膜的光学和电学性能。对于从事研发工作的人员来说,这本书无疑提供了一个极佳的参考平台,它不仅教会你“怎么做”,更重要的是告诉你“为什么这样做”。随后的章节中,关于特定功能薄膜(如高反射膜、抗反射膜、阻挡层)的工艺窗口优化,给出了非常实用的操作指南,这些经验的积累,凝聚了作者多年的心血。

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阅读这本书的过程,与其说是学习,不如说是一次系统性的知识重塑。它让我从一个点状的、零散的工艺知识点,构建起了一个关于“薄膜沉积系统”的完整认知框架。书中对于薄膜结构与性能之间关系的探讨,层次分明,从宏观的表面形貌,到微观的晶粒取向、缺陷密度,再到电磁波的相互作用,层层递进,构建了一张完整的性能关联图谱。尤其是关于薄膜的机械性能(硬度、韧性)测试方法及其与微观结构的关联分析,提供了大量可操作的验证流程。这本书的价值在于,它不仅提供了技术规范,更传递了一种严谨的科学研究方法论——即如何通过理论指导实验,再由实验数据反哺理论修正工艺。对于任何希望将镀膜技术应用于高附加值产品开发的工程师和研究人员而言,这本厚重的著作,绝对是一部值得反复研读的案头必备工具书。

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真空镀膜技术,即物理气相沉积,包括真空蒸镀,溅射镀膜,离子镀。另外有外围知识,真空,电源,plv应用,镀前准备,膜层质量检验。

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真空镀膜技术,即物理气相沉积,包括真空蒸镀,溅射镀膜,离子镀。另外有外围知识,真空,电源,plv应用,镀前准备,膜层质量检验。

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真空镀膜技术,即物理气相沉积,包括真空蒸镀,溅射镀膜,离子镀。另外有外围知识,真空,电源,plv应用,镀前准备,膜层质量检验。

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真空镀膜技术,即物理气相沉积,包括真空蒸镀,溅射镀膜,离子镀。另外有外围知识,真空,电源,plv应用,镀前准备,膜层质量检验。

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真空镀膜技术,即物理气相沉积,包括真空蒸镀,溅射镀膜,离子镀。另外有外围知识,真空,电源,plv应用,镀前准备,膜层质量检验。

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